摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第7-13页 |
·微带天线概述 | 第7-8页 |
·微带天线的发展 | 第7页 |
·微带天线的分类 | 第7-8页 |
·微带天线的优缺点 | 第8页 |
·微带天线的应用 | 第8-9页 |
·国内外微带天线的研究现状 | 第9页 |
·Fe-Si合金的基本性质 | 第9-10页 |
·Fe-Si合金的应用前景 | 第10-11页 |
·本论文研究意义和研究内容 | 第11-13页 |
·本论文的主要研究意义 | 第11页 |
·本论文的主要研究内容 | 第11-13页 |
第二章 微带贴片天线的理论分析 | 第13-25页 |
·微带贴片天线的结构 | 第13-14页 |
·微带贴片天线的辐射机理 | 第14-15页 |
·微带天线分析方法 | 第15-21页 |
·传输线模型法 | 第15-18页 |
·空腔模型法 | 第18-19页 |
·全波模型法 | 第19-20页 |
·有限元法及HFSS软件 | 第20-21页 |
·微带天线馈电方法 | 第21-25页 |
·微带传输线馈电 | 第21-22页 |
·耦合馈电 | 第22页 |
·同轴探针馈电 | 第22-25页 |
第三章 Fe_3Si材料制备及性质 | 第25-35页 |
·Fe_3Si材料的晶体结构与磁学性质 | 第25-26页 |
·Fe_3Si合金的晶体结构 | 第25-26页 |
·Fe_3Si的磁学性质 | 第26页 |
·Fe_3Si(合金、薄膜)研究的制备方法 | 第26-30页 |
·机械合金化(Mechanical Alloying—MA) | 第27页 |
·分子束外延法(Molecular Beam Epitaxy,MBE) | 第27-28页 |
·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition-PLD) | 第28-29页 |
·溅射沉积(Sputtering Deposition) | 第29页 |
·化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition—CVD) | 第29-30页 |
·电子束蒸发(Electron Beam Evaporation) | 第30页 |
·材料制备实验原料 | 第30页 |
·材料制备主要实验设备 | 第30-33页 |
·行星式球磨机及其工作原理 | 第31-32页 |
·热压烧结炉及其工作原理 | 第32-33页 |
·Fe_3Si合金材料实验制备与测试流程 | 第33-34页 |
·Fe_3Si合金材料实验制备工艺参数 | 第34-35页 |
第四章 Fe_3Si合金磁电性质研究 | 第35-44页 |
·Fe_3Si合金材料的磁电性质测试 | 第35-37页 |
·矢量网络分析法及其工作原理 | 第35-36页 |
·谐振腔微扰法及其工作原理 | 第36-37页 |
·复介电常数与复磁导率测试与分析 | 第37-43页 |
·样品测试数据分析小结 | 第43-44页 |
第五章 Fe_3Si天线圆极化设计与仿真 | 第44-53页 |
·波的极化 | 第44-47页 |
·线极化波 | 第44-45页 |
·圆极化波 | 第45-46页 |
·椭圆极化波 | 第46-47页 |
·圆极化波的重要性质 | 第47-48页 |
·实现圆极化的设计方式 | 第48-49页 |
·单馈法 | 第48页 |
·多馈法 | 第48-49页 |
·多元法 | 第49页 |
·Fe_3Si材料基片微带天线的模型建立及验证 | 第49-52页 |
·天线模型的结构与尺寸 | 第49-51页 |
·天线模型的建模完整性验证 | 第51页 |
·天线模型的仿真精度验证 | 第51-52页 |
·天线模型的磁场场区图验证 | 第52-53页 |
第六章 Fe_3Si材料天线性能仿真与分析 | 第53-68页 |
·圆极化轴比特性仿真与分析 | 第53-55页 |
·微带贴片天线的回波损耗与VSWR电压驻波比 | 第55页 |
·天线的回波损耗性仿真与分析 | 第55-57页 |
·天线的电压驻波比仿真与分析 | 第57-59页 |
·微带贴片天线的方向性 | 第59页 |
·天线的E面H面方向图仿真与分析 | 第59-62页 |
·微带贴片天线的增益性 | 第62页 |
·天线的增益性仿真与分析 | 第62-65页 |
·微带贴片天线的尺寸性研究与分析 | 第65-68页 |
第七章 总结与展望 | 第68-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-74页 |
附录 | 第74-75页 |