LPCVD技术沉积的ZnO薄膜及其特性研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| abstract | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| ·研究背景及意义 | 第11-14页 |
| ·研究现状 | 第14-16页 |
| ·本论文组织结构 | 第16-19页 |
| 第2章 材料制备与性能表征 | 第19-29页 |
| ·LPCVD ZnO薄膜的制备 | 第19-20页 |
| ·CIGS电池器件制备 | 第20页 |
| ·材料和器件性能的表征方法和原理 | 第20-29页 |
| ·台阶仪 | 第20-21页 |
| ·方块电阻 | 第21-22页 |
| ·霍尔(Hall)测试 | 第22-23页 |
| ·紫外-可见-近红外光谱仪 | 第23-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第26页 |
| ·X射线衍射 | 第26-27页 |
| ·太阳能电池测试 | 第27-29页 |
| 第3章 LPCVD沉积ZnO薄膜及其性质研究 | 第29-53页 |
| ·沉积时间对沉积ZnO薄膜的影响 | 第29-35页 |
| ·厚度、沉积速率及均匀性 | 第29-31页 |
| ·晶体结构 | 第31-32页 |
| ·电学性能 | 第32-33页 |
| ·光学性能 | 第33-35页 |
| ·衬底温度对沉积ZnO薄膜的影响 | 第35-42页 |
| ·沉积速率 | 第36-38页 |
| ·晶体结构 | 第38-40页 |
| ·电学性能 | 第40-41页 |
| ·光学性能 | 第41-42页 |
| ·B掺杂对沉积ZnO薄膜的影响 | 第42-50页 |
| ·沉积速率 | 第43-44页 |
| ·表面结构 | 第44-45页 |
| ·电学特性 | 第45-46页 |
| ·光学特性 | 第46-50页 |
| ·本章小结 | 第50-53页 |
| 第4章 LPCVD ZnO薄膜湿热衰退特性研究 | 第53-62页 |
| ·微观结构特性 | 第53-54页 |
| ·光学性能 | 第54-55页 |
| ·电学性质 | 第55-58页 |
| ·退火处理的研究 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第5章 Ar等离子体刻蚀ZnO薄膜的研究 | 第62-67页 |
| ·微观结构特性 | 第62-63页 |
| ·光学性能 | 第63-64页 |
| ·电学性能 | 第64-65页 |
| ·成分组成 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结束语 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 攻读硕士期间发表论文及报告情况 | 第75页 |
