用于热释电探测器的红外微透镜阵列的设计与制作
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第11-12页 |
| ·相关领域的研究现状 | 第12-21页 |
| ·热释电红外焦平面阵列 | 第12-14页 |
| ·微透镜阵列及其在红外探测中的应用 | 第14-16页 |
| ·红外微透镜阵列制作技术 | 第16-21页 |
| ·本论文主要研究内容及相关章节的介绍 | 第21-23页 |
| 第2章 红外微透镜阵列的设计 | 第23-32页 |
| ·红外微透镜阵列在热释电探测器上的应用 | 第23-25页 |
| ·红外微透镜阵列设计原则 | 第25-29页 |
| ·填充因子 | 第25-26页 |
| ·微透镜F数的选择 | 第26-28页 |
| ·微透镜材料的选择 | 第28-29页 |
| ·红外微透镜阵列参数控制方法 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 热回流法制作光刻胶微透镜阵列 | 第32-52页 |
| ·常规热回流法的基本工艺流程 | 第32-36页 |
| ·常规热回流法得到的结果及分析 | 第36-40页 |
| ·回流成功的样品 | 第36-39页 |
| ·回流失败的样品 | 第39-40页 |
| ·热回流的影响因素及动态过程 | 第40-44页 |
| ·影响热回流的因素 | 第41-43页 |
| ·热回流的动态过程 | 第43-44页 |
| ·扩大微透镜F数的新方法 | 第44-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 离子束刻蚀转移光刻胶微透镜 | 第52-75页 |
| ·离子束刻蚀技术 | 第52-57页 |
| ·离子束刻蚀物理基础 | 第52-53页 |
| ·离子束刻蚀机的基本结构 | 第53-55页 |
| ·离子束刻蚀工艺流程 | 第55-57页 |
| ·离子束刻蚀过程中的面形演化 | 第57-67页 |
| ·面形演化的数学模型 | 第58-62页 |
| ·影响面形演化的实际因素 | 第62-67页 |
| ·改变刻蚀角度优化刻蚀结果 | 第67-74页 |
| ·离子束垂直入射刻蚀得到的结果及分析 | 第68-70页 |
| ·离子束倾斜入射刻蚀得到的结果及分析 | 第70-73页 |
| ·利用优化刻蚀工艺转移大F数光刻胶微透镜阵列 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第5章 结论与展望 | 第75-77页 |
| ·本论文的创新点 | 第75-76页 |
| ·问题及展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第82-83页 |
| 指导教师及作者简介 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
