| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·印染行业中节能减排技术 | 第9-10页 |
| ·基于分散染料印花技术的现状 | 第10-12页 |
| ·涤纶织物的直接印花 | 第10-11页 |
| ·分散染料在涤纶纤维上的固色机理 | 第11-12页 |
| ·分散染料对涤纶纤维印花存在的问题 | 第12页 |
| ·基于分散染料微量聚合印花技术研究 | 第12-16页 |
| ·分散染料增深系统 | 第13页 |
| ·“三合一”功能单体的原位聚合 | 第13-16页 |
| ·印花流程工艺比较 | 第16页 |
| ·印花糊料的选择及其应用 | 第16-18页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第18-19页 |
| ·本课题研究的内容及研究方法 | 第19-20页 |
| 第二章 实验材料和方法 | 第20-26页 |
| ·实验材料和仪器 | 第20-22页 |
| ·织物 | 第20页 |
| ·染料 | 第20页 |
| ·化学药品 | 第20-21页 |
| ·实验仪器 | 第21-22页 |
| ·实验方法 | 第22-23页 |
| ·分散染料微量聚合印花配方及工艺 | 第22页 |
| ·印花原糊的制备 | 第22页 |
| ·自制浆 A 的制备 | 第22-23页 |
| ·测试方法 | 第23-26页 |
| ·印花样品表面色深度及性能测试 | 第23-24页 |
| ·印花糊料的基本性能测试 | 第24-25页 |
| ·自制浆 A 稳定性测试方法 | 第25页 |
| ·印花织物风格测试 | 第25-26页 |
| 第三章 分散染料微量聚合印花工艺的探究 | 第26-63页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·正交试验乙烯基单体的优化 | 第26-33页 |
| ·乙烯基单体的优化（正交试验 A） | 第26-30页 |
| ·乙烯基单体的优化（正交试验 B） | 第30-33页 |
| ·二次回归正交模型乙烯基单体优化 | 第33-58页 |
| ·未还原清洗 L*值的二次回归正交模型 | 第33-39页 |
| ·未还原清洗 K/S 值的二次回归正交模型 | 第39-43页 |
| ·还原清洗 L*值的二次回归正交模型 | 第43-46页 |
| ·还原清洗 K/S 值的二次回归正交模型 | 第46-50页 |
| ·二次回归正交模型小结 | 第50页 |
| ·乙烯基单体的优化（正交试验 C） | 第50-56页 |
| ·自制浆 A 的稳定性 | 第56页 |
| ·涤纶织物的衰减全反射红外光谱(FTIR-ATR) | 第56-58页 |
| ·印花工艺的优化 | 第58-62页 |
| ·汽蒸条件的优化 | 第58-60页 |
| ·焙烘条件的优化 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第四章 印花原糊的选用及其性能的探讨 | 第63-75页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·印花原糊的选用 | 第63-74页 |
| ·增稠剂的流变性 | 第63-68页 |
| ·增稠剂的耐电介质性能 | 第68-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 涤纶微量聚合印花织物的性能 | 第75-83页 |
| ·印花清晰度 | 第75-79页 |
| ·增稠剂复配对清晰度的影响 | 第75-76页 |
| ·吸湿组分对清晰度的影响 | 第76页 |
| ·交联剂对清晰度的影响 | 第76-77页 |
| ·乳化剂和消泡组分对清晰度的影响 | 第77页 |
| ·其他助剂对清晰度的影响 | 第77-79页 |
| ·印花织物的色牢度 | 第79-80页 |
| ·印花织物的手感 | 第80-81页 |
| ·织物风格测试 | 第80-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第六章 结论 | 第83-85页 |
| 第七章 结语与展望 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-89页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |