| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-26页 |
| ·课题背景 | 第14-15页 |
| ·半导体光催化材料 | 第15-21页 |
| ·半导体光催化材料的反应机理 | 第15-19页 |
| ·重要步骤及其特征时间 | 第15-16页 |
| ·活性氧化物的形成过程 | 第16-17页 |
| ·TiO_2降解甲基橙的反应机理分析 | 第17-19页 |
| ·半导体光催化材料的反应动力学 | 第19-20页 |
| ·朗缪尔-伍德动力学模型(L-H) | 第19页 |
| ·吸附效应 | 第19-20页 |
| ·光催化环境净化的两大体系 | 第20-21页 |
| ·光催化空气净化体系 | 第20页 |
| ·光催化水体净化体系 | 第20-21页 |
| ·纳米金属铜的研究 | 第21-25页 |
| ·纳米金属铜的制备 | 第21-23页 |
| ·机械球磨法 | 第21-22页 |
| ·溅射法 | 第22页 |
| ·化学制备法 | 第22-23页 |
| ·纳米金属铜的应用 | 第23-25页 |
| ·纳米金属铜在电学方面的应用 | 第23-24页 |
| ·纳米金属铜在热学方面的应用 | 第24页 |
| ·纳米金属铜在光学方面的应用 | 第24页 |
| ·纳米金属铜在催化方面的应用 | 第24-25页 |
| ·论文选题和主要内容 | 第25-26页 |
| 第2章 单质铜的制备及其光催化性能研究 | 第26-38页 |
| ·引言 | 第26-27页 |
| ·实验部分 | 第27-28页 |
| ·实验原料和设备 | 第27-28页 |
| ·样品制备 | 第28页 |
| ·分析测试 | 第28页 |
| ·光催化性能检测 | 第28页 |
| ·实验结果与讨论 | 第28-37页 |
| ·铜源加入量对单质铜结构和光催化性能的影响 | 第29-34页 |
| ·改变铜源浓度的单质铜材料的结构 | 第29页 |
| ·改变铜源浓度的单质铜材料的形貌 | 第29-32页 |
| ·改变铜源浓度的单质铜材料的光催化性能 | 第32-34页 |
| ·反应时间对单质铜结构和光催化性能的影响 | 第34-36页 |
| ·不同反应时间的单质铜材料的结构 | 第34-35页 |
| ·不同反应时间的单质铜材料的形貌 | 第35-36页 |
| ·不同反应时间的单质铜的光催化性能 | 第36页 |
| ·单质铜的形成机理分析 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第3章 氧化锌负载金属铜的制备与光催化性能研究 | 第38-54页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·实验部分 | 第39-40页 |
| ·实验原料和设备 | 第39页 |
| ·样品制备 | 第39-40页 |
| ·分析测试 | 第40页 |
| ·光催化性能检测 | 第40页 |
| ·实验结果与讨论 | 第40-53页 |
| ·低铜源加入量的Cu/T-ZnOw复合材料 | 第40-43页 |
| ·低铜源加入量Cu/T-ZnOw复合物的结构 | 第40-41页 |
| ·低铜源加入量Cu/T-ZnOw复合物的形貌 | 第41-42页 |
| ·低铜源加入量Cu/T-ZnOw复合物的光催化性能 | 第42-43页 |
| ·高铜源加入量的Cu/T-ZnOw复合材料 | 第43-46页 |
| ·高铜源加入量Cu/T-ZnOw复合物的结构 | 第43-44页 |
| ·高铜源加入量Cu/T-ZnOw复合物的形貌 | 第44-45页 |
| ·高铜源加入量Cu/T-ZnOw复合物的光催化性能 | 第45-46页 |
| ·铜沉积氧化锌粉末的复合材料 | 第46-51页 |
| ·Cu/ZnO复合物的结构 | 第46-47页 |
| ·Cu/ZnO复合物的形貌 | 第47-49页 |
| ·Cu/ZnO复合物的光催化性能 | 第49-51页 |
| ·铜沉积氧化锌复合材料的光催化机理 | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第4章 二氧化硅负载金属铜的制备与光催化性能研究 | 第54-73页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·实验部分 | 第55-56页 |
| ·实验原料和设备 | 第55页 |
| ·样品制备 | 第55-56页 |
| ·分析测试 | 第56页 |
| ·光催化性能检测 | 第56页 |
| ·实验结果与讨论 | 第56-72页 |
| ·改变CTAB加入量的Cu/SiO_2复合材料 | 第56-59页 |
| ·改变CTAB加入量的Cu/SiO_2复合物的结构 | 第57页 |
| ·改变CTAB加入量的Cu/SiO_2复合物的形貌 | 第57-58页 |
| ·改变CTAB加入量的Cu/SiO_2复合物的光催化性能 | 第58-59页 |
| ·改变反应时间的Cu/SiO_2复合材料 | 第59-62页 |
| ·不同反应时间的Cu/SiO_2复合物的结构 | 第59-60页 |
| ·不同反应时间的Cu/SiO_2复合物的形貌 | 第60-61页 |
| ·不同反应时间的Cu/SiO_2复合物的光催化性能 | 第61-62页 |
| ·改变pH的Cu/SiO_2复合物材料 | 第62-64页 |
| ·不同pH的Cu/SiO_2复合物的结构 | 第62-63页 |
| ·不同pH的Cu/SiO_2复合物的形貌 | 第63-64页 |
| ·不同pH的Cu/SiO_2复合物的光催化性能 | 第64页 |
| ·改变铜源含量的Cu/SiO_2复合材料 | 第64-71页 |
| ·不同铜源含量的Cu/SiO_2复合物的结构 | 第65页 |
| ·不同铜源含量的Cu/SiO_2复合物的形貌 | 第65-68页 |
| ·不同铜源含量的Cu/SiO_2复合物的紫外可见漫反射分析UV-VisDRS | 第68页 |
| ·不同铜源含量的Cu/SiO_2复合物的光催化性能 | 第68-71页 |
| ·铜沉积二氧化硅复合物的形成机理 | 第71-72页 |
| ·小结 | 第72-73页 |
| 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及科研成果 | 第87页 |
