透明导电减反射膜的研制
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-17页 |
| ·透明导电膜的种类及特点 | 第7-8页 |
| ·ITO的组织结构 | 第8页 |
| ·ITO薄膜光学性质 | 第8-10页 |
| ·ITO薄膜的电学性质 | 第10-11页 |
| ·ITO薄膜的电磁屏蔽性能 | 第11-14页 |
| ·电磁的屏蔽原理 | 第11-12页 |
| ·ITO薄膜的电磁屏蔽效率 | 第12-13页 |
| ·雷达波的反射率 | 第13-14页 |
| ·ITO薄膜的化学特性 | 第14页 |
| ·ITO薄膜的应用 | 第14-15页 |
| ·本论文研究内容 | 第15-17页 |
| 2 膜系设计 | 第17-28页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第17-18页 |
| ·膜系设计 | 第18-28页 |
| ·周期膜系设计 | 第18-25页 |
| ·非极值增透膜设计 | 第25-28页 |
| 3 透明导电减反射膜的制备 | 第28-47页 |
| ·ITO薄膜的常用制备方法 | 第28页 |
| ·电子束蒸发ITO薄膜 | 第28-29页 |
| ·电子束蒸发设备及仪器 | 第29-30页 |
| ·抽真空系统 | 第30-35页 |
| ·电子束材料蒸发系统 | 第35-37页 |
| ·薄膜厚度监控系统 | 第37-41页 |
| ·石英晶体膜厚控制仪(IC/5) | 第37-39页 |
| ·光学膜厚控制仪 | 第39-41页 |
| ·控制误差分析 | 第41页 |
| ·膜层镀制工艺过程 | 第41-44页 |
| ·要求 | 第41页 |
| ·膜系结构 | 第41-42页 |
| ·过程控制 | 第42-44页 |
| ·影响膜层质量的工艺分析及改进措施 | 第44-47页 |
| ·影响膜层质量的工艺分析 | 第44-45页 |
| ·改进措施 | 第45-47页 |
| 4 ITO薄膜的测试 | 第47-51页 |
| ·透过率测试 | 第47-48页 |
| ·折射率及厚度测试 | 第48页 |
| ·ITO薄膜方块电阻测试 | 第48-51页 |
| ·方块电阻的定义 | 第48-49页 |
| ·方块电阻的测量 | 第49-51页 |
| 5 测试结果分析 | 第51-62页 |
| ·ITO薄膜的实验数据及工艺分析 | 第51-58页 |
| ·最终实验片的光谱曲线 | 第58-59页 |
| ·薄膜电阻的测试 | 第59页 |
| ·隐身性能的测试 | 第59-60页 |
| ·环境试验及强度测试 | 第60-62页 |
| 6 结论 | 第62-63页 |
| ·结论 | 第62页 |
| ·展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
