| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 1 绪论 | 第12-25页 |
| ·研究背景 | 第12-15页 |
| ·我国目前NO_X的污染现状及防治法规 | 第12-13页 |
| ·NO_X排放控制技术手段 | 第13-15页 |
| ·低温等离子体放电促进NO.转化技术 | 第15-21页 |
| ·低温等离子体技术 | 第15-17页 |
| ·介质阻挡放电(DBD) | 第17-18页 |
| ·丝状DBD放电的特性 | 第18-19页 |
| ·介质阻挡放电在污染物处理领域的研究进展 | 第19-21页 |
| ·等离子体放电过程的发射光谱诊断 | 第21-23页 |
| ·发射光谱介绍 | 第21-23页 |
| ·发射光谱法在低温等离子体研究中的应用 | 第23页 |
| ·本文的研究内容以及意义 | 第23-25页 |
| 2 光谱理论与实验方法 | 第25-34页 |
| ·光谱理论 | 第25-28页 |
| ·光谱的位置 | 第25-26页 |
| ·发射光谱的强度 | 第26-27页 |
| ·谱线的线型 | 第27-28页 |
| ·实验系统 | 第28-34页 |
| ·交流电源 | 第28-30页 |
| ·DBD反应器 | 第30页 |
| ·气路系统 | 第30页 |
| ·光谱采集系统 | 第30-32页 |
| ·实验中的发射光谱采集 | 第32-34页 |
| 3 基于发射光谱诊断方法的DBD放电过程温度研究 | 第34-49页 |
| ·实验方法 | 第34页 |
| ·发射光谱法测量温度研究 | 第34-47页 |
| ·DBD放电过程的电子温度 | 第35-37页 |
| ·DBD放电过程分子振动温度 | 第37-40页 |
| ·DBD放电过程的气体温度 | 第40-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 4 DBD放电过程活性物质生成与相互作用光谱诊断 | 第49-64页 |
| ·实验方法 | 第49页 |
| ·NO/O_2/N_2气氛下DBD放电促进NO转化的光谱诊断 | 第49-56页 |
| ·NO与N_2发射光谱强度的一维分布 | 第50-51页 |
| ·NO浓度对NO(A~2∑~+→X~2Π,0-3)发射光谱强度的影响 | 第51-52页 |
| ·O_2浓度对NO(A~2∑~+→X~2Π,0-3)和N_2(C~3Π_u→B~3Π_g,0-0)发射光谱强度影响 | 第52-53页 |
| ·电压对NO(A~2∑~+→X~2Π,0-3)和N_2(C~3Π_u→B~3Π_g,0-0)发射光谱强度影响 | 第53-54页 |
| ·流速对NO(A~2∑~+→X~2Π,0-3)和N_2(C~3Π_u→B~3Π_g,0-0)发射光谱强度影响 | 第54-55页 |
| ·Ar浓度对NO(A~2∑~+→X~2Π,0-3)和N_2(C~3Π_u→B~3Π_g,0-0)的发射光谱强度影响 | 第55-56页 |
| ·NO/H_2O/O_2/N_2气氛下DBD放电促进NO转化的光谱诊断 | 第56-62页 |
| ·相对湿度对OH(A~2∑~+→X~2Π,0→0)发射光谱强度变化 | 第56-58页 |
| ·氧浓度对OH(A~2∑~+→X~2Π,0-0)发射光谱强度的影响 | 第58-59页 |
| ·电压对OH(A~2∑+→X~2Π,0-0)与NO(A~2∑~+→X~2Π,0-3)发射光谱强度影响 | 第59-60页 |
| ·相对湿度对N_2(C~3Π_u→B~3Π_g,0→0)与NO(A~2∑~+→X~2Π,0-3,1-4)发射光谱强度影响 | 第60-61页 |
| ·NO浓度对OH(A~2∑~+→X~2Π,0-0)与NO(A~2∑~+→X~2Π,0-3)发射光谱强度影响 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 5. 总结与展望 | 第64-66页 |
| ·研究总结 | 第64页 |
| ·主要创新点 | 第64-65页 |
| ·不足之处与研究展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 作者简介及在校期间发表成果 | 第71页 |
