苦味酸镍含能薄膜的原位制备与表征
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究背景 | 第10-12页 |
| ·含能薄膜材料简介 | 第12-13页 |
| ·含能薄膜材料的国内外研究现状 | 第13-20页 |
| ·国外研究现状 | 第13-17页 |
| ·国内研究现状 | 第17-20页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 2 苦味酸镍粉末的制备与表征 | 第22-29页 |
| ·实验用原材料及测试仪器 | 第22-23页 |
| ·苦味酸镍粉末的制备 | 第23-24页 |
| ·苦味酸镍的表征 | 第24-27页 |
| ·~1H-NMR的表征 | 第24-26页 |
| ·傅立叶红外光谱(FT-IR) | 第26-27页 |
| ·小结 | 第27-29页 |
| 3 三维有序多孔硅基片的制备及表征 | 第29-34页 |
| ·光助电化学刻蚀方法简介 | 第30-31页 |
| ·实验 | 第31-32页 |
| ·实验材料及仪器 | 第31页 |
| ·实验过程 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-33页 |
| ·SEM测试 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 4 镍在多孔硅基片表面的无电沉积 | 第34-40页 |
| ·无电沉积简介 | 第34-35页 |
| ·实验 | 第35-36页 |
| ·实验器材及仪器 | 第35页 |
| ·实验过程 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-38页 |
| ·XRD分析 | 第36-37页 |
| ·SEM形貌分析 | 第37-38页 |
| ·X射线电子能谱分析(EDS) | 第38页 |
| ·小结 | 第38-40页 |
| 5 苦味酸镍薄膜的制备及表征 | 第40-45页 |
| ·苦味酸镍含能薄膜的制备 | 第40页 |
| ·实验器材及仪器 | 第40页 |
| ·实验过程 | 第40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-44页 |
| ·SEM形貌分析 | 第41页 |
| ·FT-IR测试 | 第41-42页 |
| ·~1H-NMR分析 | 第42-43页 |
| ·TG-DSC表征 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 6 结论 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 附录 | 第53页 |
