一种光电经纬仪红外变焦光学系统的研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
目录 | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-17页 |
·红外成像技术的特点及应用 | 第9-11页 |
·红外成像技术的发展状况 | 第11-14页 |
·国内外红外成像技术发展现状 | 第11-12页 |
·制冷探测器和冷光阑效率 | 第12-14页 |
·论文的研究背景和主要内容 | 第14-17页 |
第二章 红外成像系统参数确定 | 第17-27页 |
·红外辐射规律和工作波长的选取 | 第17-19页 |
·红外辐射规律 | 第17-18页 |
·光学系统工作波长的选取 | 第18-19页 |
·光学系统参数确定 | 第19-21页 |
·作用距离分析 | 第21-24页 |
·作用距离公式 | 第21-23页 |
·红外捕获跟踪系统的作用距离分析 | 第23-24页 |
·材料的选择 | 第24-25页 |
·本章小结 | 第25-27页 |
第三章 变焦距光学系统设计 | 第27-41页 |
·变焦系统 | 第27-31页 |
·变焦距光学系统的特点 | 第27页 |
·变焦理论 | 第27-30页 |
·像面补偿方式 | 第30-31页 |
·两档变焦光学系统 | 第31-33页 |
·红外捕获跟踪光学系统的设计 | 第33-41页 |
·设计思路 | 第34-35页 |
·设计结果 | 第35-37页 |
·对比分析 | 第37-41页 |
第四章 系统无热化设计及公差分析 | 第41-51页 |
·红外系统无热化设计 | 第41-47页 |
·温度变化对光学系统的影响 | 第41-42页 |
·无热化技术 | 第42-45页 |
·无热化设计结果 | 第45-47页 |
·公差分析 | 第47-51页 |
·公差分析原则 | 第47-48页 |
·系统公差分析 | 第48-51页 |
第五章 冷反射分析 | 第51-59页 |
·冷反射的概念与成因 | 第51-52页 |
·冷反射概念 | 第51页 |
·冷反射的形成条件 | 第51-52页 |
·反映红外光学系统冷反射影响的特征量 | 第52-53页 |
·冷反射分析结果 | 第53-59页 |
总结与展望 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-65页 |
硕士期间发表文章 | 第65-67页 |
致谢 | 第67页 |