| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·聚偏氟乙烯的概论 | 第11-13页 |
| ·聚偏氟乙烯的简介 | 第11-12页 |
| ·聚偏氟乙烯晶体结构及其结晶特性 | 第12-13页 |
| ·聚偏氟乙烯膜的制备工艺 | 第13-14页 |
| ·流延法制备薄膜 | 第13页 |
| ·拉伸制备薄膜 | 第13-14页 |
| ·高介电复合膜的制备 | 第14-16页 |
| ·高介电聚合物基复合材料的界面和微观结构 | 第14-15页 |
| ·添加物含量对介电性能的影响 | 第15-16页 |
| ·本文研究的目的及意义 | 第16-18页 |
| 第2章 实验部分 | 第18-24页 |
| ·实验采用的仪器及原料 | 第18-19页 |
| ·主要设备 | 第18页 |
| ·原料 | 第18-19页 |
| ·性能测试和分析方法 | 第19-24页 |
| ·介电常数和介电损耗测试 | 第19页 |
| ·击穿场强测试 | 第19-20页 |
| ·力学性能测试 | 第20-21页 |
| ·电阻测试 | 第21-23页 |
| ·热性能分析（TG-DSC） | 第23页 |
| ·傅立叶红外光谱分析（FTIR） | 第23页 |
| ·扫描电镜分析（SEM） | 第23页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第23-24页 |
| 第3章 拉伸处理聚偏氟乙烯膜的制备工艺研究 | 第24-42页 |
| ·聚偏氟乙烯膜的制备工艺研究 | 第24-37页 |
| ·PVDF 膜制备工艺的研究 | 第24页 |
| ·PVDF 膜的制备过程 | 第24-25页 |
| ·PVDF 膜制备工艺设计 | 第25-26页 |
| ·实验数据处理及分析 | 第26-33页 |
| ·性能分析 | 第33-34页 |
| ·测试分析 | 第34-37页 |
| ·拉伸处理膜 | 第37-41页 |
| ·实验设计方案 | 第37-38页 |
| ·拉伸对薄膜性能的影响 | 第38-39页 |
| ·拉伸对薄膜结构的影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 无机粉体改性聚偏氟乙烯膜的制备 | 第42-55页 |
| ·实验设计及过程 | 第42页 |
| ·实验设计 | 第42页 |
| ·实验过程 | 第42页 |
| ·BaTiO_3/PVDF 的结构和性能研究 | 第42-48页 |
| ·BaTiO_3对薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
| ·BaTiO_3对薄膜结构的影响 | 第45-48页 |
| ·CCTO/PVDF 的结构和性能研究 | 第48-54页 |
| ·CCTO 对薄膜性能的影响 | 第48-51页 |
| ·CCTO 对薄膜结构的影响 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 偶联剂处理 CCTO/PVDF 膜的影响 | 第55-67页 |
| ·偶联剂浓度对 CCTO/PVDF 膜的影响 | 第55-61页 |
| ·实验原理 | 第55页 |
| ·实验设计 | 第55页 |
| ·实验过程 | 第55-56页 |
| ·性能分析 | 第56-58页 |
| ·测试分析 | 第58-61页 |
| ·CCTO 含量对 PVDF 膜的性能（2%偶联剂处理）的影响 | 第61-66页 |
| ·性能分析 | 第61-63页 |
| ·测试分析 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 作者简介 | 第74页 |