SU-8微纳米流体通道制作方法研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-30页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·微/纳流控系统研究进展 | 第11-12页 |
| ·微/纳流控系统制作材料 | 第12-16页 |
| ·硅及其化合物 | 第13页 |
| ·聚合物 | 第13-15页 |
| ·SU-8光刻胶 | 第15-16页 |
| ·不同材料纳米通道的制作 | 第16-22页 |
| ·PDMS | 第16-18页 |
| ·PMMA | 第18-20页 |
| ·SU-8 | 第20-22页 |
| ·本论文的研究目的及论文架构 | 第22-24页 |
| ·论文架构 | 第24页 |
| ·本论文包括以下七章内容 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第2章 多种纳米压印模板及通道沟槽制作 | 第30-56页 |
| ·前言 | 第30-33页 |
| ·热压纳米压印技术 | 第30-31页 |
| ·紫外光刻纳米压印技术 | 第31-33页 |
| ·全息压印模板及压印沟槽 | 第33-38页 |
| ·全息光刻原理 | 第33-34页 |
| ·模板制作 | 第34-37页 |
| ·纳米压印 | 第37-38页 |
| ·光滑纳米压印模板及沟槽制作 | 第38-45页 |
| ·高深宽比模板LER带来的压印缺陷 | 第38-40页 |
| ·光滑压印模板制作 | 第40-43页 |
| ·光滑压印模扳制作纳米沟槽 | 第43-45页 |
| ·PDMS软压印模板制作 | 第45-50页 |
| ·压印图形影响因素 | 第50-52页 |
| ·温度 | 第50-52页 |
| ·压印时间 | 第52页 |
| ·压印压力 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 第3章 热键合方法制作纳米通道 | 第56-70页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·实验方案及步骤 | 第57-59页 |
| ·实验结果与分析 | 第59-67页 |
| ·SU-8表面能改进 | 第59-60页 |
| ·键合层采用双层胶 | 第60-64页 |
| ·双层胶粘附层厚度对键合高度的控制 | 第64-66页 |
| ·键合时间对通道高度影响 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 第4章 薄膜沉积制作纳米通道 | 第70-82页 |
| ·引言 | 第70-71页 |
| ·薄膜沉积制作纳米通道原理 | 第71-73页 |
| ·离子溅射镀膜过程 | 第73-75页 |
| ·实验结果讨论与分析 | 第75-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-82页 |
| 第5章 正负胶复合显影制作纳米通道 | 第82-96页 |
| ·引言 | 第82-83页 |
| ·正负光刻胶复合显影制作纳米通道原理 | 第83-86页 |
| ·实验结果与分析 | 第86-92页 |
| ·本章小结 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-96页 |
| 第6章 纳米流体系统的制作 | 第96-120页 |
| ·引言 | 第96页 |
| ·组合光刻压印模板制作纳米流体系统 | 第96-104页 |
| ·纳米压印的缺陷 | 第96-97页 |
| ·组合光刻压印模板制作不同尺寸图形原理 | 第97-98页 |
| ·HMM制作 | 第98-101页 |
| ·纳米流体系统制作 | 第101-104页 |
| ·自支撑SU-8微纳米流体系统制作 | 第104-111页 |
| ·纳米流体系统制作 | 第105-108页 |
| ·实验结果 | 第108-111页 |
| ·流体测试 | 第111-115页 |
| ·本章小结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-120页 |
| 第7章 总结与展望 | 第120-124页 |
| ·总结 | 第120-121页 |
| ·论文创新点 | 第121页 |
| ·展望 | 第121-124页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第124-126页 |
| 申请发明专利 | 第126-128页 |
| 致谢 | 第128-129页 |
