| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·光折变效应的历史回顾及应用 | 第10-16页 |
| ·光折变效应 | 第10-13页 |
| ·光折变效应的历史回顾 | 第13-15页 |
| ·光折变材料及其应用 | 第15-16页 |
| ·光折变体全息存储 | 第16-18页 |
| ·光折变体全息图的基本原理 | 第16页 |
| ·光折变体全息存储技术的主要特点 | 第16-17页 |
| ·光折变体全息存储的复用技术和编码方式 | 第17页 |
| ·光折变全息图的固定技术 | 第17-18页 |
| ·近化学计量比LINBO_3晶体 | 第18页 |
| ·双色全息存储 | 第18-19页 |
| ·LINBO_3晶体中的小极化子 | 第19-20页 |
| ·光折变效应的一些重要特征参量及其描述 | 第20-23页 |
| ·响应时间 | 第20页 |
| ·全息动态范围 | 第20-21页 |
| ·光折变灵敏度 | 第21-22页 |
| ·角分复用参数和分辨率 | 第22-23页 |
| 第二章 晶体材料制备和数据测量 | 第23-27页 |
| ·晶体制备 | 第23-24页 |
| ·数据测量 | 第24-27页 |
| ·测量光致吸收 | 第24-25页 |
| ·测量光电流和光电导 | 第25-26页 |
| ·双色全息实验 | 第26-27页 |
| 第三章 理论模型 | 第27-41页 |
| ·载流子的运输机制 | 第27-28页 |
| ·漂移电流 | 第27-28页 |
| ·扩散电流 | 第28页 |
| ·光生伏打电流 | 第28页 |
| ·泊松方程和连续性方程 | 第28-29页 |
| ·光折变晶体中光传播的波动方程 | 第29页 |
| ·电荷输运模型 | 第29-35页 |
| ·一中心模型 | 第30-32页 |
| ·电子-空穴竞争模型 | 第32-33页 |
| ·二中心模型 | 第33-35页 |
| ·两光束耦合 | 第35-37页 |
| ·考虑锰离子和小极化子间直接跃迁和复合的二中心模型 | 第37-41页 |
| ·仅紫外光照射下对晶体的敏化 | 第37-39页 |
| ·记录 | 第39-41页 |
| 第四章 分析与讨论 | 第41-47页 |
| ·光致吸收及其衰减过程 | 第41-44页 |
| ·光电流和光电导 | 第44-45页 |
| ·全息记录全过程分析 | 第45-47页 |
| 第五章 总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第55-56页 |
| 附录 | 第56-57页 |