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吸收渐变电荷倍增分离结构雪崩光电二极管的理论研究与实验制备

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-8页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-21页
   ·研究背景第10-12页
   ·雪崩光电二极管的发展第12-18页
     ·APD的结构第12-17页
     ·材料体系第17-18页
   ·论文的主要研究内容第18-19页
 参考文献第19-21页
第二章 APD的基本理论第21-30页
   ·APD工作原理第21页
   ·APD的性能参数第21-28页
     ·耗尽区内的电场强度E第21-23页
     ·APD的倍增特性第23-25页
     ·APD的过剩噪声第25-26页
     ·光电转换效率第26-28页
     ·暗电流第28页
   ·本章小结第28-29页
 参考文献第29-30页
第三章 SAGCM-APD频率响应特性研究第30-49页
   ·单层结构二极管频率响应分析第31-35页
     ·理论基础第31-33页
     ·各种单层结构响应参量的推导第33-35页
   ·InGaAs/InGaAsP/Si SAGCM-APD频率响应研究第35-41页
     ·频率响应公式推导第35-37页
     ·仿真结论分析第37-41页
   ·InGaAs/InGaAsP/InP SAGCM-APD频率响应研究第41-47页
     ·频率响应公式推导第41-43页
     ·仿真结论分析第43-47页
   ·本章小结第47-48页
 参考文献第48-49页
第四章 SAGCM-APD结构参数设计和性能分析第49-59页
   ·器件结构第49-52页
   ·各结构参数对频率响应特性的影响第52-53页
   ·各结构参数对增益因子的影响第53-57页
   ·确定结构参数第57页
   ·本章小结第57页
 参考文献第57-59页
第五章 InGaAs/InP SAGCM-APD的实验制备第59-65页
   ·InP基SAGCM-APD的后工艺制作第59-62页
   ·InP基SAGCM-APD的器件测试第62-63页
   ·本章小结第63-64页
 参考文献第64-65页
致谢第65-66页
作者攻读学位期间发表的学术论文目录第66页

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