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合金靶材溅射法制备Cu(In,Ga)Se2薄膜与其性能研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-9页
目录第9-11页
第一章 绪论第11-25页
   ·太阳能历史及发展现状第13-23页
     ·太阳能分布第13-15页
     ·太阳能利用的现状第15-17页
     ·CIGS薄膜太阳能电池概述第17-23页
   ·本论文研究的内容和意义第23-25页
第二章 磁控溅射四元合金靶制备CIGS薄膜研究第25-42页
   ·薄膜材料的测试表征第25-30页
     ·扫描电子显微镜第25-26页
     ·X射线衍射仪第26-27页
     ·拉曼光谱仪第27-28页
     ·霍尔效应测试仪第28-29页
     ·磁控溅射原理第29-30页
   ·磁控溅射原理第30-31页
   ·CIGS薄膜制备第31-41页
     ·溅射功率对CIGS薄膜的影响第31-39页
     ·溅射工作气压对CIGS薄膜的影响第39-41页
   ·小结第41-42页
第三章 退火对CIGS薄膜的影响第42-55页
   ·传统退火方法对CIGS薄膜性能的影响第42-49页
     ·退火温度对CIGS薄膜性能的影响第42-47页
     ·退火时间对CIGS薄膜性能的影响第47-49页
   ·改进后的退火工艺第49-54页
     ·载气流量对CIGS薄膜形貌的影响第50-52页
     ·退火前后CIGS薄膜的化学元素成分和光电性能分析第52-54页
   ·小结第54-55页
第四章 缓冲层CdS薄膜及CIGS电池器件的制备第55-65页
   ·CdS薄膜制备第55-62页
   ·CIGS电池器件制备及测试第62-65页
第五章 总结与展望第65-66页
参考文献第66-71页
附录第71-72页
致谢第72页

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