第一章 绪论 | 第1-31页 |
·非线性光学聚合物材料概述 | 第6页 |
·线性光学聚合物材料的发展及现状 | 第6-20页 |
·二阶非线性光学聚合物材料的发展现状 | 第6-12页 |
·三阶非线性光学聚合物材料的发展现状 | 第12-15页 |
·非线性光学聚合物的理论研究现状及测量技术进展 | 第15-20页 |
·课题的提出 | 第20-21页 |
·研究内容 | 第21-23页 |
·设计思想 | 第21-22页 |
·单体的合成 | 第22页 |
·单体的聚合 | 第22-23页 |
·非线性光学性能研究 | 第23页 |
·参考文献 | 第23-31页 |
第二章 单体的合成 | 第31-55页 |
·前言 | 第31-32页 |
·单炔化合物的合成原理 | 第32-33页 |
·设计的目标单体和合成路线 | 第33-37页 |
·目标单体 | 第33页 |
·单体化合物的合成路线 | 第33-35页 |
·合成所用主要试剂及原料 | 第35-36页 |
·主要仪器 | 第36页 |
·无水试剂的制备 | 第36-37页 |
·单体的合成及结构分析 | 第37-45页 |
·N,N-二(羟乙基)苯胺的合成 | 第37-38页 |
·4-溴代-4’-[N,N-二(羟乙基)氨基]偶氮苯的合成 | 第38-40页 |
·4-硝基-4’-[N,N-二(羟乙基)氨基]偶氮苯的合成 | 第40页 |
·4-苯炔基-4’-[N,N-二(羟乙基)氨基]偶氮苯的合成 | 第40-42页 |
·4-炔丙氧基苯甲酸的合成 | 第42页 |
·单炔化合物的合成 | 第42-45页 |
·结论 | 第45页 |
·参考文献 | 第45-55页 |
第三章 线形高分子二乙炔的合成 | 第55-65页 |
·高分子二乙炔的合成 | 第55-56页 |
·二乙炔化合物的合成原理 | 第55页 |
·合成的二乙炔的分子结构 | 第55-56页 |
·单体的聚合及结果分析 | 第56-63页 |
·所用的主要试剂及原料 | 第56页 |
·吡啶及氯化亚铜的精制 | 第56-57页 |
·单体聚合过程 | 第57页 |
·聚合结果 | 第57-58页 |
·聚合物结构表征及讨论 | 第58-63页 |
·结论 | 第63-64页 |
·参考文献 | 第64-65页 |
第四章 单炔和高分子二乙炔的光限幅效应 | 第65-76页 |
·前言 | 第65-66页 |
·光限幅的原理及分类 | 第66-68页 |
·光限幅的原理 | 第66-68页 |
·光限幅的分类 | 第68页 |
·光限幅机制: | 第68-70页 |
·反饱和吸收(RSA) | 第68-69页 |
·双光子吸收(TPA) | 第69-70页 |
·单炔和高分子二乙炔的光限幅特性 | 第70-74页 |
·光限幅实验装置的建立 | 第70页 |
·单体及其聚合物的光限幅特性 | 第70-74页 |
·光限幅机制的分析 | 第74页 |
·结论 | 第74-75页 |
·参考文献 | 第75-76页 |
第五章 高分子二乙炔聚合物紫外拓扑聚合 | 第76-83页 |
·前言 | 第76-78页 |
·线形高分子二乙炔的紫外拓扑聚合 | 第78-80页 |
·聚合过程 | 第78页 |
·聚合结果及讨论 | 第78-80页 |
·紫外写入法制作光折变功能光栅 | 第80-82页 |
·结论 | 第82页 |
·参考文献 | 第82-83页 |
致谢 | 第83页 |