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真空中绝缘子沿面预闪络和闪络现象的研究

中文摘要第1-9页
英文摘要第9-11页
第1章 绪  论第11-22页
 1.1 真空中绝缘子沿面闪络现象研究的意义第11-12页
 1.2 真空中绝缘子沿面闪络现象研究的进展第12-20页
  1.2.1 试验研究方法第12页
  1.2.2 影响真空中绝缘子沿面闪络的因素第12-17页
  1.2.3 关于真空中绝缘子沿面闪络机理的假说第17-20页
 1.3 真空中绝缘子沿面闪络现象的研究现状和存在的问题第20-21页
 1.4 本文的研究内容第21-22页
第2章 试验装置及测试方法第22-41页
 2.1 冲击电压源第22页
 2.2 试样与电极系统第22-24页
 2.3 真空系统第24-27页
 2.4 冲击电压测量系统第27-32页
 2.5 表面电荷测量系统第32-36页
 2.6 电流和表面微弱光信号检测系统第36-37页
 2.7 实时信号测量与记录系统第37-38页
 2.8 试验方法与程序第38-40页
 2.9 小结第40-41页
第3章 预闪络和表面带电现象第41-66页
 3.1 试验研究方法第41-42页
 3.2 试验结果第42-53页
  3.2.1 真空中的预闪络现象第42-49页
  3.2.2 试样表面的带电现象及规律第49-52页
  3.2.3 预闪络现象、表面带电现象与沿面闪络现象第52-53页
 3.3 试验结果分析第53-65页
  3.3.1 经典解释的不足第53-55页
  3.3.2 基于陷阱的解释第55-65页
 3.4 小结第65-66页
第4章 微观结构对氧化铝陶瓷沿面闪络性能的影响第66-82页
 4.1 陶瓷生产工艺及影响陶瓷性能的因素第66-67页
 4.2 试样的制备第67-68页
 4.3 试样的微观结构第68-71页
 4.4 烧结温度和保温时间对沿面闪络性能的影响第71-77页
  4.4.1 试样的沿面闪络电压第71-72页
  4.4.2 试样的预闪络特性第72-73页
  4.4.3 试样的表面带电特性第73-75页
  4.4.4 试验结果的分析和讨论第75-77页
 4.5 添加剂对沿面闪络性能的影响第77-81页
  4.5.1 试样的沿面闪络特性第77-78页
  4.5.2 试样的预闪络特性第78-79页
  4.5.3 试样的表面带电特性第79页
  4.5.4 试验结果的分析与讨论第79-81页
 4.6 小结第81-82页
第5章 表面研磨对氧化铝陶瓷沿面闪络性能的影响第82-97页
 5.1 试样的制备第83-84页
 5.2 试验结果第84-92页
  5.2.1 沿面闪络特性第84-88页
  5.2.2 预闪络特性第88-89页
  5.2.3 表面带电特性第89-92页
 5.3 试验结果的分析和讨论第92-96页
  5.3.1 对阴极电子发射的影响第93-94页
  5.3.2 对试样表面态的影响第94-95页
  5.3.3 对试样表面二次电子发射系数的影响第95-96页
 5.4 小结第96-97页
第6章 真空中绝缘子沿面闪络的发展过程第97-103页
 6.1 真空中绝缘子沿面闪络现象的机理第97-100页
  6.1.1 沿面闪络的起始第97页
  6.1.2 沿面闪络的发展第97-99页
  6.1.3 放电在绝缘子—真空界面产生的原因第99-100页
 6.2 沿面闪络模型的应用第100-102页
  6.2.1 直流电压作用下沿面闪络滞后的现象第101页
  6.2.2 纳秒级脉冲电压作用下的沿面闪络现象第101页
  6.2.3 表面处理对沿面闪络特性的影响第101页
  6.2.4 外加磁场对沿面闪络电压的影响第101-102页
  6.2.5 表面吸附气体对沿面闪络电压的影响第102页
  6.2.6 放电预处理对沿面闪络电压的影响第102页
  6.2.7 绝缘子外形和电极接触面积对沿面闪络电压的影响第102页
 6.3 小结第102-103页
第7章 结  论第103-105页
 7.1 本文主要研究成果第103-104页
 7.2 后续工作展望第104-105页
致  谢第105-106页
攻读博士学位期间发表的学术论文及完成的科研任务第106-108页
 发表的学术论文第106-107页
 完成的科研任务第107-108页
参考文献第108-115页
图表索引第115-118页

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