| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·综述 | 第9-10页 |
| ·气浮垫的国内外研究现状 | 第10-13页 |
| ·气浮垫的结构原理及制造 | 第13-17页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 2 气浮垫研抛设备改造和运动分析及仿真 | 第18-31页 |
| ·平面研磨抛光机介绍 | 第18-19页 |
| ·平面研磨抛光机的改造 | 第19-22页 |
| ·研磨机加载方式改造 | 第19-20页 |
| ·端面旋转密封件设计方案 | 第20-21页 |
| ·弹性薄板均压槽气浮垫研抛总体方案 | 第21-22页 |
| ·平面研磨抛光运动过程分析及仿真 | 第22-30页 |
| ·平面研磨抛光的加工机理 | 第22-23页 |
| ·平面研磨抛光运动轨迹方程的建立 | 第23-25页 |
| ·气浮垫转速的确定 | 第25-27页 |
| ·平面研磨抛光运动轨迹仿真 | 第27-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 3 气浮垫精密研抛工艺机理分析及研究 | 第31-46页 |
| ·磨料的综述 | 第31-33页 |
| ·研磨液的组成及要求 | 第33页 |
| ·研磨盘的选择 | 第33-34页 |
| ·气浮垫表面划痕产生的机理及分析 | 第34-39页 |
| ·划痕产生的原因和影响 | 第34-35页 |
| ·气浮垫研磨表面划痕产生的理论模型 | 第35-36页 |
| ·单颗磨粒压入气浮垫的深度计算 | 第36-37页 |
| ·单颗磨粒压入气浮垫和研磨盘的关系 | 第37-39页 |
| ·研磨抛光盘的修复和检测 | 第39-43页 |
| ·平面度的定义及误差测量 | 第39页 |
| ·圆(环)形布点方式 | 第39-40页 |
| ·测量研磨盘平面度误差 | 第40-41页 |
| ·最小二乘法评定研磨盘的平面度误差 | 第41-43页 |
| ·气浮垫研磨抛光工艺技术研究 | 第43-45页 |
| ·气浮垫研磨抛光的加工工艺路线 | 第43-44页 |
| ·气浮垫与工件盘的粘结技术 | 第44-45页 |
| ·气浮垫的清洗技术 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 气浮垫精密研抛实验研究及分析 | 第46-63页 |
| ·气浮垫研磨抛光工艺实验条件 | 第46-47页 |
| ·实验材料 | 第46页 |
| ·实验仪器 | 第46页 |
| ·实验工作环境 | 第46-47页 |
| ·实验内容 | 第47页 |
| ·气浮垫研磨工艺实验及分析 | 第47-55页 |
| ·研磨盘转速对气浮垫表面质量的影响 | 第47-48页 |
| ·研磨压力对气浮垫表面质量的影响 | 第48-49页 |
| ·磨粒种类对气浮垫表面质量的影响 | 第49-50页 |
| ·磨粒粒度对气浮垫表面质量的影响 | 第50-51页 |
| ·研磨液浓度对气浮垫表面质量的影响 | 第51-52页 |
| ·最优单因素组合下研磨实验结果 | 第52-55页 |
| ·气浮垫抛光工艺实验及分析 | 第55-62页 |
| ·抛光盘转速对气浮垫表面质量的影响 | 第56页 |
| ·抛光压力对气浮垫抛光表面质量的影响 | 第56-57页 |
| ·磨料种类对气浮垫抛光表面质量的影响 | 第57-58页 |
| ·磨料粒度对气浮垫抛光表面粗糙度的影响 | 第58-59页 |
| ·最优单因素组合下抛光实验结果 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 5 结论 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63-64页 |
| ·本课题的工作展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-72页 |
| 附录A 气浮垫研磨运动轨迹仿真部分程序代码(MATLAB) | 第72-74页 |