| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-20页 |
| ·稀磁半导体材料研究的背景及意义 | 第8页 |
| ·ZnO 的基本性质及应用 | 第8-10页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体的研究进展 | 第10-17页 |
| ·Co 掺杂ZnO | 第10-15页 |
| ·Mn 掺杂ZnO | 第15-16页 |
| ·Fe 掺杂 ZnO | 第16-17页 |
| ·V、Cr、Ni 掺杂ZnO | 第17页 |
| ·本论文的研究思路和主要内容 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-20页 |
| 第二章 ZnO 基薄膜的制备 | 第20-30页 |
| ·ZnO 基薄膜的制备 | 第20-25页 |
| ·脉冲激光沉积法（PLD） | 第20页 |
| ·溶胶凝胶法(Sol-Gel) | 第20-21页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第21页 |
| ·溅射沉积法 | 第21-25页 |
| ·溅射薄膜的工作原理 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第22-24页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第24-25页 |
| ·本论文所用磁控溅射实验装置 | 第25-27页 |
| ·设备的主要技术参数 | 第25-27页 |
| ·基片的清洗 | 第27-28页 |
| ·样品的退火处理 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 薄膜的表征 | 第30-37页 |
| ·膜厚的测量 | 第30-31页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第31-33页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第33页 |
| ·X 射线光谱学（XPS） | 第33-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第四章 Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的结构 | 第37-46页 |
| ·工作参数对薄膜沉积速率的影响 | 第37-39页 |
| ·工作参数对薄膜结构的影响 | 第39-41页 |
| ·不同溅射功率下沉积的ZnO薄膜的X射线衍射图 | 第39-40页 |
| ·不同基片温度下沉积的ZnO薄膜的X射线衍射图 | 第40-41页 |
| ·不同Fe 掺杂浓度对ZnO 薄膜结构的影响 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第五章 Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的光、磁学性质 | 第46-57页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的光吸收特性 | 第46-49页 |
| ·引言 | 第46-49页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的光学透射谱 | 第49页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的光致发光特性 | 第49-53页 |
| ·引言 | 第49-51页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的光致发光谱 | 第51-53页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的磁学特性 | 第53-55页 |
| ·引言 | 第53-55页 |
| ·Zn_(1-x)Fe_xO 薄膜的M-H 图谱 | 第55页 |
| ·本章结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-59页 |
| 硕士期间发表论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |