脉冲激光液相烧蚀法制备硅纳米晶及其发光性能的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-20页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·硅的发光机理与结构 | 第7-9页 |
| ·硅基发光材料的制备方法 | 第9-11页 |
| ·常规（准平衡）制备方法 | 第9-10页 |
| ·极端非平衡制备方法 | 第10页 |
| ·非平衡的制备条件下获得高效率发光的可能原因 | 第10-11页 |
| ·现有的极端非平衡方法的局限性及进一步研究的方向 | 第11页 |
| ·脉冲激光烧蚀法制备硅纳米晶的研究现状 | 第11-19页 |
| ·脉冲激光烧蚀法制备硅纳米晶 | 第12-16页 |
| ·脉冲激光液相烧蚀法制备纳米颗粒 | 第16-19页 |
| ·本课题的思路及创新之处 | 第19-20页 |
| 第二章 试验原料和试验装置 | 第20-22页 |
| ·试验原料 | 第20页 |
| ·实验的制备与测试设备 | 第20-22页 |
| ·激光器 | 第20-21页 |
| ·微观结构分析（TEM） | 第21页 |
| ·光致发光性能测试（PL） | 第21页 |
| ·结晶相分析（XRD） | 第21页 |
| ·表面键分析（FTIR） | 第21-22页 |
| 第三章 脉冲激光烧蚀体硅材料制备硅纳米晶的研究 | 第22-38页 |
| ·硅纳米晶的制备 | 第22-23页 |
| ·硅纳米晶的形貌、结构及性能研究 | 第23-30页 |
| ·硅纳米晶的形貌分析 | 第23-25页 |
| ·硅纳米晶结构分析 | 第25-27页 |
| ·硅纳米晶的表面键分析 | 第27-29页 |
| ·硅纳米晶的光致发光性能分析 | 第29-30页 |
| ·面心立方硅纳米晶的形成机理 | 第30-31页 |
| ·激光功率密度对制备硅纳米晶的影响 | 第31-32页 |
| ·激光烧蚀后硅片的形貌特征 | 第32-38页 |
| 第四章 脉冲激光烧蚀硅粉制备硅纳米晶的研究 | 第38-48页 |
| ·硅纳米晶的制备 | 第38-39页 |
| ·硅纳米晶的形貌及结构分析 | 第39-42页 |
| ·激光烧蚀前后硅粉的形貌 | 第39-40页 |
| ·硅纳米晶的TEM形貌分析 | 第40-41页 |
| ·硅纳米晶的结构分析 | 第41-42页 |
| ·硅纳米晶的形成机理 | 第42-43页 |
| ·激光功率密度对硅纳米晶的影响 | 第43-48页 |
| ·激光功率密度对制备硅纳米晶形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·激光功率密度对硅纳米晶的发光性能的影响 | 第44-46页 |
| ·硅纳米晶的光致发光稳定性 | 第46-48页 |
| 第五章 脉冲激光烧蚀一氧化硅粉制备硅纳米晶的研究 | 第48-60页 |
| ·硅纳米晶的制备 | 第48-49页 |
| ·硅纳米晶的形貌、结构及物相分析 | 第49-55页 |
| ·激光烧蚀前后粉末物质的形貌 | 第49-50页 |
| ·硅纳米晶的形貌分析 | 第50-53页 |
| ·硅纳米晶的物相和结构分析 | 第53-55页 |
| ·硅纳米晶的晶体取向 | 第55页 |
| ·硅纳米晶的形成机制 | 第55-58页 |
| ·硅纳米晶的发光性能 | 第58-60页 |
| 第六章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-68页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
