磁控溅射法制备WO3电致变色薄膜和钛掺杂改性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 引言 | 第8-25页 |
| ·综述 | 第8-9页 |
| ·变色机理 | 第9-12页 |
| ·色心模型 | 第9页 |
| ·电化学反应模型 | 第9页 |
| ·双注入模型 | 第9-11页 |
| ·小极化子吸收模型 | 第11页 |
| ·电致变色能带理论的探讨 | 第11-12页 |
| ·电致变色的发展前景 | 第12-15页 |
| ·电致变色器件中存在的问题 | 第15-16页 |
| ·提高电致变色器件性能的研究 | 第16-25页 |
| ·增大变色材料与离子的接触面积 | 第16-17页 |
| ·阴极、阳极材料互补 | 第17-18页 |
| ·在WO_3薄膜中掺入不同的物质 | 第18-25页 |
| 2 薄膜的制备方法 | 第25-30页 |
| ·溶胶-凝胶镀膜法 | 第25页 |
| ·化学气相沉积镀膜法 | 第25页 |
| ·热喷涂镀膜法 | 第25-26页 |
| ·真空蒸镀镀膜法 | 第26页 |
| ·离子镀膜法 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射镀膜法 | 第27-30页 |
| 3 薄膜的制备和材料分析方法 | 第30-35页 |
| ·中频孪生非平衡磁控溅射 | 第30-31页 |
| ·WO_3薄膜制备及实验参数 | 第31页 |
| ·钛掺杂WO_3薄膜制备及实验参数 | 第31页 |
| ·薄膜的分析测试方法 | 第31-35页 |
| ·扫面电镜(SEM)分析 | 第32页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第32页 |
| ·X射线光电子谱(XPS) | 第32页 |
| ·Raman光谱分析 | 第32页 |
| ·原子力显微镜分析(AFM) | 第32-35页 |
| 4 原始未掺杂WO_3薄膜电致变色性能的研究 | 第35-44页 |
| ·薄膜成分及结构分析 | 第35-37页 |
| ·氧气含量对薄膜性能的影响 | 第37-40页 |
| ·热处理对薄膜电致变色性能的影响 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 5 钛掺杂WO_3薄膜的电致变色性能的研究 | 第44-57页 |
| ·薄膜成分及结构分析 | 第44-47页 |
| ·拉曼光潜分析 | 第47-49页 |
| ·钛掺杂对WO_3电致变色性能的影响 | 第49-54页 |
| ·钛掺杂对吸收光潜 | 第49-50页 |
| ·透射光谱的影响 | 第50-53页 |
| ·掺杂对响应时间和循环寿命的影响 | 第53-54页 |
| ·电致变色器件 | 第54-56页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·电致变色器件的组装 | 第55页 |
| ·电致变色器件透射光谱的测定 | 第55-56页 |
| ·电致变色器件响应时间的测定 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第64页 |
