| 第一章 引言 | 第1-19页 |
| ·课题的研究背景、目的及意义 | 第12-13页 |
| ·国内外的发展动态及其趋势 | 第13-16页 |
| ·本文主要的研究内容 | 第16-19页 |
| 第二章 光电耦合器概述及理论分析 | 第19-35页 |
| ·光电耦合器的主要性能特点 | 第19-20页 |
| ·光电耦合器、继电器、变压耦合器、隔离电容器之间的比较 | 第20页 |
| ·光电耦合器的分类 | 第20-21页 |
| ·结构特点 | 第21-22页 |
| ·基本参数分析和实现 | 第22-32页 |
| ·典型应用及选用原则 | 第32-35页 |
| 第三章 普通型高压隔离光电耦合器的研制 | 第35-46页 |
| ·普通型高压隔离光电耦合器的简要电路原理 | 第35-36页 |
| ·理论分析和设计 | 第36-41页 |
| ·器件外腔材料分析和选择 | 第41页 |
| ·器件的制作 | 第41-42页 |
| ·研制的结果 | 第42-45页 |
| ·结束语 | 第45-46页 |
| 第四章 高压隔离线性光电耦合器的稳定性研究 | 第46-55页 |
| ·器件的电路设计及工作原理 | 第46-49页 |
| ·光耦合部分的结构设计与理论分析 | 第49-50页 |
| ·器件制作及工艺流程 | 第50-51页 |
| ·实验与结果 | 第51-54页 |
| ·结束语 | 第54-55页 |
| 第五章 高压隔离高容驱动光电耦合器的研制 | 第55-70页 |
| ·器件的结构和工作原理 | 第55-56页 |
| ·主要技术参数的设计 | 第56-59页 |
| ·器件的工艺制作 | 第59-60页 |
| ·研制的结果及分析 | 第60-67页 |
| ·某系统电路上的试用情况 | 第67-69页 |
| ·结束语 | 第69-70页 |
| 第六章 器件的制作工艺 | 第70-74页 |
| ·陶瓷管座制作 | 第70页 |
| ·厚膜电路的制作 | 第70页 |
| ·电路焊接 | 第70-71页 |
| ·烧结压焊 | 第71页 |
| ·耦合 | 第71-72页 |
| ·封装 | 第72页 |
| ·中测 | 第72页 |
| ·筛选 | 第72页 |
| ·末测 | 第72-73页 |
| ·检验 | 第73页 |
| ·工艺设备 | 第73-74页 |
| 第七章 器件的测试方法 | 第74-79页 |
| ·测试方法 | 第74-78页 |
| ·补充说明 | 第78-79页 |
| 第八章 结论 | 第79-82页 |
| ·本文完成的主要工作 | 第79-81页 |
| ·主要的特色与创新 | 第81页 |
| ·下一步工作展望 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-84页 |
| 攻硕期间所发表的科研论文 | 第84页 |