AlN压电薄膜制备及铰链式高量程加速度计研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·声表面波器件介绍 | 第7-8页 |
| ·研究动机 | 第8-10页 |
| ·声表面波陀螺研究意义 | 第8-9页 |
| ·声表面波器件研究 | 第9-10页 |
| ·ALN的晶体结构及特性 | 第10-12页 |
| ·AlN晶体结构 | 第10页 |
| ·AlN的材料特性及其应用 | 第10-11页 |
| ·目前关于AlN制备及性能研究工作与进展 | 第11-12页 |
| ·本部分的主要工作 | 第12-13页 |
| 第二章 反应直流磁控溅射ALN薄膜及特性分析 | 第13-31页 |
| ·反应溅射原理 | 第13-16页 |
| ·辉光放电 | 第13-14页 |
| ·磁控溅射原理 | 第14-15页 |
| ·反应性溅射 | 第15-16页 |
| ·声表面波(SAW)原理 | 第16-20页 |
| ·压电效应 | 第16-18页 |
| ·表面声波概论 | 第18-20页 |
| ·制备ALN薄膜的正交实验设计 | 第20-24页 |
| ·正交实验介绍 | 第20-22页 |
| ·溅射参数的正交试验设计 | 第22-24页 |
| ·ALN薄膜特性分析 | 第24-30页 |
| ·AlN薄膜(002)择优取向的方差分析 | 第24-27页 |
| ·AlN薄膜的表面粗糙度方差分析 | 第27-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 加速度传感器简介 | 第31-44页 |
| ·MEMS(微电子机械系统)简介 | 第31-33页 |
| ·MEMS加速度传感器的工作原理 | 第33-34页 |
| ·MEMS加速度传感器的优点 | 第34-35页 |
| ·MEMS加速度传感器在国内外的发展 | 第35-42页 |
| ·压电式加速度传感器 | 第36页 |
| ·声表面波加速度传感器 | 第36页 |
| ·隧穿式加速度传感器 | 第36-37页 |
| ·电容式加速度传感器 | 第37-39页 |
| ·压阻式加速度传感器 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 铰链式加速度传感器的工作原理及设计 | 第44-66页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·传感器的结构 | 第45页 |
| ·传感器的简化模型分析 | 第45-48页 |
| ·表面应力分析 | 第47-48页 |
| ·传感器的频率响应 | 第48-50页 |
| ·特征振动频率 | 第48-49页 |
| ·加速度计的阻尼设计 | 第49-50页 |
| ·加速度传感器的结构优化 | 第50-52页 |
| ·S·ω_0~2优值法设计 | 第50-51页 |
| ·最大应力法结构优化设计 | 第51-52页 |
| ·改进模型分析 | 第52-58页 |
| ·改进模型计算 | 第52-54页 |
| ·模型理论与仿真分析 | 第54-58页 |
| ·传感器的横向效应 | 第58-61页 |
| ·工艺误差对器件的影响 | 第61-64页 |
| ·光刻对准误差对器件性能的影响 | 第61-63页 |
| ·键合对准误差对器件性能的影响 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 加速度传感器的工艺研究 | 第66-78页 |
| ·传感器基本工艺参数和工艺流程的确定 | 第66-67页 |
| ·加速度传感器的版图设计及制作工艺 | 第67-73页 |
| ·以干法刻蚀技术为主的工艺流程 | 第67-70页 |
| ·以湿法刻蚀技术为主的工艺流程 | 第70-73页 |
| ·工艺中的监控和测量 | 第73-76页 |
| ·流片中需要注意的问题 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第六章 高量程加速度传感器的封装与动静态测试方法 | 第78-85页 |
| ·封装中需注意的问题 | 第78-79页 |
| ·加速度传感器的静态特性测试方法 | 第79-80页 |
| ·加速度传感器的动态特性测试方法 | 第80-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 第七章 工作总结 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 个人简历 | 第94页 |
| 硕士期间发表文章 | 第94-95页 |
| 学位论文独创性声明 | 第95页 |
| 学位论文使用授权声明 | 第95页 |
