| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-25页 |
| ·β-FeSi_2—一种新型的光电及热电材料 | 第8-13页 |
| ·结构及特性 | 第8-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-13页 |
| ·离子束溅射沉积 | 第13-18页 |
| ·基本原理 | 第14-16页 |
| ·Kaufman 离子源 | 第16-18页 |
| ·纳米多层膜与互扩散 | 第18-20页 |
| ·质子和电子辐照对物质的影响 | 第20-23页 |
| ·本论文选题意义及研究内容 | 第23-25页 |
| ·β-FeSi_2薄膜的制备 | 第23-24页 |
| ·Fe/Si 多层膜的结构与互扩散 | 第24-25页 |
| 第2章 反应沉积外延制备β-FeSi_2薄膜 | 第25-34页 |
| ·引言 | 第25-26页 |
| ·实验方法 | 第26-28页 |
| ·实验设备 | 第26-27页 |
| ·实验过程 | 第27-28页 |
| ·实验结果与分析 | 第28-33页 |
| ·衬底温度对不同铁硅化合物形成的影响 | 第28-30页 |
| ·表面形貌分析 | 第30-31页 |
| ·截面显微分析 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 真空退火Fe/Si 多层膜制备β-FeSi_2薄膜 | 第34-44页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·实验方法 | 第35-36页 |
| ·实验结果与分析 | 第36-43页 |
| ·Fe、Si 沉积速率的确定 | 第36-38页 |
| ·真空退火β-FeSi_2 相的形成 | 第38-39页 |
| ·退火前后多层膜表面粗糙度和形貌 | 第39-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 Fe/Si 多层膜的结构与互扩散研究 | 第44-63页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·实验方法 | 第45-47页 |
| ·Fe/Si 多层膜的原位XRD 实验 | 第45页 |
| ·综合辐照实验 | 第45-47页 |
| ·实验结果与分析 | 第47-62页 |
| ·Fe/Si 多层膜的结构和互扩散 | 第47-55页 |
| ·综合辐照Fe/Si 多层膜的结构与互扩散 | 第55-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 作者简介 | 第72页 |