反饱和吸收化合物制备及其激光防护光限幅性能的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| §1.1 引言 | 第9页 |
| §1.2 激光对人眼的损伤机理 | 第9-11页 |
| §1.3 激光器危害的分类 | 第11-15页 |
| ·一类 | 第11页 |
| ·二类 | 第11页 |
| ·三类 | 第11-12页 |
| ·四类 | 第12-15页 |
| §1.4 激光防护材料及技术指标 | 第15-17页 |
| ·激光防材料现状 | 第15-17页 |
| ·激光防护材料的发展趋势 | 第17页 |
| §1.5 本论文的研究内容 | 第17-19页 |
| ·前期工作 | 第17-18页 |
| ·存在的不足 | 第18页 |
| ·拟采取方案 | 第18-19页 |
| 第二章 非线性光学原理与光限幅 | 第19-28页 |
| §2.1 非线性光学的发展概况 | 第19-20页 |
| §2.2 利用非线性光学原理的光限幅技术 | 第20-23页 |
| ·非线性折射光限幅 | 第20-21页 |
| ·非线性散射光限幅 | 第21-22页 |
| ·非线性反射光限幅 | 第22-23页 |
| ·非线性吸收光限幅 | 第23页 |
| §2.3 非线性光限幅材料种类 | 第23-28页 |
| ·半导体材料 | 第23-24页 |
| ·无机金属团簇 | 第24页 |
| ·有机三阶非线性光学材料 | 第24-26页 |
| ·纳米材料 | 第26-27页 |
| ·非线性光限幅材料的制备方法 | 第27-28页 |
| 第三章 激发态光学非线性测试方法及理论 | 第28-38页 |
| §3.1 基于激发态光学非线性的Z扫描理论 | 第28-32页 |
| ·Z扫描方法的基本原理 | 第28-29页 |
| ·Z扫描方法的基本理论 | 第29-32页 |
| §3.2 激发态吸收特性 | 第32-38页 |
| ·材料的激发态非线性吸收基本理论 | 第33-35页 |
| ·卟啉、酞菁材料的反饱和吸收 | 第35页 |
| ·酞菁材料光限幅器件的优化 | 第35-38页 |
| 第四章 反饱和吸收有机化合物的合成 | 第38-47页 |
| §4.1 酞菁系列化合物的合成 | 第38-43页 |
| ·4-硝基邻苯二腈的合成 | 第39-40页 |
| ·不同金属酞菁化合物的合成 | 第40-41页 |
| ·不同取代基金属酞菁的合成 | 第41-42页 |
| ·枯丁苯氧基金属酞菁的合成 | 第42页 |
| ·叔丁基铟酞菁的合成 | 第42-43页 |
| §4.2 卟啉金属配合物的制备 | 第43-47页 |
| ·卟啉的合成方法 | 第43-44页 |
| ·金属卟啉的合成 | 第44-47页 |
| 第五章 反饱和吸收材料及器件的制备 | 第47-53页 |
| §5.1 浇铸成型 | 第47-49页 |
| ·含金属酞菁聚合物复合材料的制备 | 第47-48页 |
| ·含金属四苯基卟啉聚合物复合材料的制备 | 第48-49页 |
| §5.2 提拉成膜 | 第49页 |
| §5.3 注射成型 | 第49-51页 |
| ·主要设备和试剂 | 第49页 |
| ·配料 | 第49页 |
| ·注射成型工艺 | 第49-51页 |
| §5.4 光限幅优化器件的制备 | 第51-53页 |
| 第六章 结构性能测试及结果分析 | 第53-96页 |
| §6.1 化合物结构测试 | 第53-70页 |
| ·元素分析 | 第53-54页 |
| ·核磁共振谱 | 第54-58页 |
| ·红外光谱 | 第58-64页 |
| ·结果分析 | 第64-70页 |
| §6.2 酞菁／PMMA复合材料的热性能测试 | 第70-72页 |
| §6.3 注射成型样品SEM分析 | 第72-73页 |
| §6.4 光限幅性能测试 | 第73-96页 |
| ·紫外-可见光谱 | 第73-82页 |
| ·反饱和吸收性能测试 | 第82-96页 |
| 第七章 结论 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
| 个人简历 | 第103页 |
