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铁酸盐复合氧化物(MFe2O4)系列气敏材料的制备及新型气体传感器的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-60页
第一章 半导体气敏材料及气体传感器的研究现状和进展第60-85页
 1.1 概述第60-62页
 1.2 半导体气体传感器的研究现状第62-67页
  1.2.1 金属氧化物和金属复合氧化物半导体气体传感器第62-66页
  1.2.2 有机半导体气体传感器第66-67页
 1.3 半导体气敏材料的制备技术第67-72页
  1.3.1 液相法制备气敏材料第68-70页
  1.3.2 固相法制备气敏材料第70-72页
  1.3.3 气相法制备气敏材料第72页
 1.4 半导体气体传感器的气敏机理第72-77页
  1.4.1 空间电荷调制理论第73-74页
  1.4.2 能级生成理论第74-75页
  1.4.3 接触粒界势垒理论第75页
  1.4.4 吸附氧模型第75-76页
  1.4.5 体原子价控制电导理论第76页
  1.4.6 体电阻控制型理论第76页
  1.4.7 非电阻型理论第76-77页
 1.5 气体传感器存在的问题与发展趋势第77-80页
 1.6 铁酸盐系气敏材料的研究现状第80-82页
  1.6.1 AB_2o_4型化合物结构第80-81页
  1.6.2 尖晶石型铁酸盐系复合氧化物气敏材料的研究现状第81-82页
 1.7 选题依据和研究目标第82-85页
  1.7.1 选题依据第82-83页
  1.7.2 研究目标第83-85页
第二章 研究内容与实验方法第85-100页
 2.1 研究对象第85-86页
 2.2 研究方案和技术路线第86页
 2.3 MFe204材料的制备第86-87页
 2.4 气敏材料的表征第87-90页
 2.5 气体传感器的结构第90-93页
  2.5.1 单元件结构气体传感器第90-93页
  2.5.2 组合结构气体传感器第93页
 2.6 气体传感器的制备工艺第93-95页
 2.7 基本测试原理第95-96页
  2.7.1 测试电路第95页
  2.7.2 气体浓度第95-96页
 2.8 气体传感器测试装置第96-97页
 2.9 气体传感器的主要性能指标第97-99页
 2.10 本章小结第99-100页
第三章 NiFe_2O_4半导体材料的制备与气敏性能研究第100-116页
 3.1 引言第100-101页
 3.2 NiFe_2O_4材料的制备与表征第101-102页
 3.3 材料的DSC-TGA和XRD分析第102-107页
 3.4 NiFe_2O_4材料形成机理的探讨第107-109页
  3.4.1 NiFe_2O_4反应机理探讨第107-108页
  3.4.2 NiFe_2O_4晶粒生长动力学第108-109页
 3.5 NiFe_2O_4材料对甲苯的气敏性能第109-115页
  3.5.1 气敏元件的制作与性能测试第109页
  3.5.2 气敏材料的电阻温度特性第109-111页
  3.5.3 对甲苯的气敏性能第111-115页
 3.6 结论第115-116页
第四章 MgFe_2O_4半导体材料的制备与气敏性能研究第116-126页
 4.1 引言第116页
 4.2 MgFe_2O_4材料的制各与表征第116-117页
 4.3 材料的DSC-TGA和XRD分析第117-120页
 4.4 MgFe_2O_4材料形成机理的探讨第120-122页
  4.4.1 MgFe_2O_4反应机理探讨第120-121页
  4.4.2 MgFe_2O_4晶粒生长动力学第121-122页
 4.5 MgFe_2O_4材料的气敏性能研究第122-125页
  4.5.1 气敏元件的制作与性能测试第122页
  4.5.2 热处理温度对材料气敏性能的影响第122-123页
  4.5.3 工作温度对材料气敏性能的影响第123-124页
  4.5.4 气体浓度对材料灵敏度的影响第124页
  4.5.5 材料的响应恢复特性第124-125页
 4.6 结论第125-126页
第五章 CdFe_2O_4半导体材料的制备与气敏性能研究第126-140页
 5.1 引言第126页
 5.2 实验部分第126-128页
  5.2.1 室温固相化学反应法合成CdFe_2O_4第126页
  5.2.2 液相法合成CdFe_2O_4第126-128页
  5.2.3 材料的表征第128页
  5.2.4 气敏元件的制作与性能测试第128页
 5.3 结果和讨论第128-139页
  5.3.1 室温固相合成CdFe_2O_4材料的XRD分析第128-129页
  5.3.2 液相法合成CdFe_2O_4材料的DSC-TGA和XRD分析第129-134页
  5.3.3 CdFe_2O_4反应机理探讨第134-135页
  5.3.4 元件的气敏性能第135-139页
 5.4 结论第139-140页
第六章 Zn_(1-X)Ni_xFe_2O_4半导体材料的制备及气敏性能研究第140-148页
 6.1 引言第140页
 6.2 实验部分第140-141页
  6.2.1 材料的制备与表征第140页
  6.2.2 元件的制作及测试第140-141页
 6.3 实验结果及讨论第141-147页
  6.3.1 材料结构分析第141-144页
  6.3.2 材料气敏特性的研究第144-147页
 6.4 结论第147-148页
第七章 MFe_2O_4半导体材料的敏感机理讨论第148-169页
 7.1 MFe_2O_4气敏材料中化学计量比的偏离和相关缺陷第148-151页
  7.1.1 MFe_2O_4气敏材料中化学计量比偏离的产生机制第148-150页
  7.2.2 化学计量比的偏离与缺陷产生的情况第150-151页
 7.2 气敏材料表面吸附特征第151-155页
 7.3 材料表面吸附、脱附和气体反应第155-156页
 7.4 材料表面吸附与表面电导的关系第156-158页
 7.5 NiFe_2O_4材料对不同气体的吸附量第158-160页
 7.6 材料电阻率与气体浓度的关系第160-162页
 7.7 NiFe_2O_4半导体材料的气敏机理第162-167页
  7.7.1 n-MFe_2O_4半导体材料的气敏机理第162-164页
  7.7.2 p-MFe_2O_4半导体材料的气敏机理第164-166页
  7.7.3 气敏机理模型与实验结果的对照第166-167页
 7.8 结论第167-169页
第八章 n+p组合结构气体传感器研究第169-194页
 8.1 n+p组合结构气体传感器原理第169-180页
  8.1.1 检测还原性气体的n+p组合结构气体传感器原理第170-177页
  8.1.2 检测氧化性气体的n+p组合结构气体传感器原理第177-180页
 8.2 高性能新型n+p组合结构臭氧气体传感器的研制第180-190页
  8.2.1 研制臭氧气体传感器的意义第180-181页
  8.2.2 臭氧浓度的定标第181-182页
  8.2.3 p半导体材料NiFe_2O_4对臭氧气体的敏感特性第182-183页
  8.2.4 n型半导体材料的选择第183-189页
  8.2.5 n+p组合结构臭氧气体传感器第189-190页
 8.3 高性能新型n+p组合结构乙醇气体传感器的研制第190-192页
 8.4 结论第192-194页
第九章 n+n组合结构半导体气体传感器研究第194-204页
 9.1 气体传感器的选择性第194-196页
 9.2 n+n组合结构半导体气体传感器原理第196-200页
  9.2.1 元件的灵敏度第197-198页
  9.2.2 元件选择性第198页
  9.2.3 元件热稳定性第198页
  9.2.4 抗湿度能力第198-199页
  9.2.5 初期驰豫时间第199页
  9.2.6 n+n组合结构高性能气体传感器选材原则第199-200页
 9.3 高性能n+n组合结构气体传感器的研制第200-202页
  9.3.1 元件的制作第200页
  9.3.2 元件测试结果第200-202页
 9.4 结论第202-204页
第十章 总结第204-207页
参考文献第207-221页
致谢第221-222页
附录A (攻读博士学位期间完成的学术论文目录)第222-224页
附录B (攻读博士学位期间从事的科研工作)第224页

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