| 摘 要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 1 绪 论 | 第7-13页 |
| ·ZnO薄膜的结构特性 | 第7-8页 |
| ·ZnO薄膜的用途 | 第8-12页 |
| ·本文研究的主要目的和内容 | 第12-13页 |
| 2 ZnO薄膜的制备技术 | 第13-26页 |
| ·ZnO薄膜各种制备方法的介绍 | 第13-18页 |
| ·磁控溅射原理 | 第18-20页 |
| ·制备工艺和实施方案 | 第20-26页 |
| 3 溅射工艺对ZnO薄膜结构的影响 | 第26-35页 |
| ·氩氧比对结晶质量的影响 | 第26-27页 |
| ·基片温度对晶粒质量的影响 | 第27-30页 |
| ·退火对于ZnO薄膜质量的影响 | 第30-33页 |
| ·溅射压强对薄膜沉积速率的影响 | 第33-35页 |
| 4 ZnO薄膜光电性能测试与分析 | 第35-47页 |
| ·ZnO的光电特性 | 第35-37页 |
| ·ZnO的发光机制 | 第37-41页 |
| ·光致发光试验结果的分析 | 第41-47页 |
| 5 结论与展望 | 第47-49页 |
| ·结论 | 第47页 |
| ·展望 | 第47-49页 |
| 致 谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 附录1 研究生期间发表的论文 | 第55页 |