纳米压印光刻技术原理与实验研究

摘  要	第1-5页
Abstract	第5-8页
1 绪言	第8-14页
·引言	第8-11页
·国内外研究现状	第11-12页
·本文的主要工作	第12-13页
·本文的组织结构	第13-14页
2 技术原理与综述	第14-23页
·传统光学光刻介绍	第14-16页
·纳米压印光刻技术原理	第16-19页
·纳米压印光刻技术的发展趋势	第19-20页
·优势及应用领域	第20-21页
·挑战与前景	第21-23页
3 设备研制	第23-63页
·纳米压印光刻机的研制	第23-40页
·喷射式湿法腐蚀机的研制	第40-42页
·聚合物材料单轴试验机的研制	第42-46页
·用于单轴测试机的六维力传感器的研制	第46-63页
4 实验研究	第63-84页
·光刻胶的力学特性研究	第63-65页
·不同加热方式的比较研究	第65-67页
·模板制备技术研究	第67-73页
·纳米级超微细结构制备工艺研究	第73-75页
·基于热压印的三维微结构制备技术研究	第75-81页
·基于热压印方法的血糖检测芯片制备技术	第81-84页
5 全文总结与展望	第84-87页
·全文总结	第84-85页
·展望和对今后工作的建议	第85-87页
致  谢	第87-88页
参考文献	第88-92页
附录1  攻读学位期间发表的论文目录	第92页