| 第一章 绪论 | 第1-34页 |
| ·微弧氧化介绍 | 第15-19页 |
| ·微弧氧化技术 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化技术的历史回顾 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化的特点 | 第17-19页 |
| ·微弧氧化机理介绍 | 第19-28页 |
| ·微弧氧化的物理化学过程 | 第19-22页 |
| ·微弧氧化的电击穿理论 | 第22-28页 |
| ·钛及其合金的微弧氧化 | 第28-32页 |
| ·钛及其合金的微弧氧化陶瓷膜的特点 | 第30页 |
| ·钛及其合金的微弧氧化陶瓷膜的应用 | 第30-32页 |
| ·论文题目的选择及主要内容 | 第32-34页 |
| 第二章 实验设备及实验方法 | 第34-39页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜制备系统简介 | 第34-36页 |
| ·微弧氧化的制备工艺及陶瓷膜的表征手段 | 第36-37页 |
| ·微弧氧化的制备工艺 | 第36-37页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的表征手段 | 第37页 |
| ·影响陶瓷膜制备的因素 | 第37-39页 |
| 第三章 恒定电压法微弧氧化陶瓷膜特性的研究 | 第39-59页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·样品的准备及实验条件 | 第39-40页 |
| ·微弧氧化过程中电学参量的变化规律 | 第40-45页 |
| ·电流的变化规律 | 第40-43页 |
| ·动态电阻的变化规律 | 第43-44页 |
| ·动态电阻率的变化规律 | 第44-45页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜特性随氧化时间的变化 | 第45-49页 |
| ·陶瓷膜的厚度和成膜速率 | 第46-47页 |
| ·陶瓷膜相组成及其含量 | 第47-49页 |
| ·处理电压对微弧氧化陶瓷膜特性的影响 | 第49-58页 |
| ·阴极电压对临界电击穿电压的影响 | 第50-51页 |
| ·处理电压对陶瓷膜厚度和相组成的影响 | 第51-58页 |
| (1) 阴／阳极电压对陶瓷膜厚度的影响 | 第51-53页 |
| (2) 阴／阳极电压对陶瓷膜相组成的影响 | 第53-56页 |
| (3) 阴极电压对陶瓷膜抗腐蚀性能的影响 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 恒定电流密度法微弧氧化陶瓷膜特性的研究 | 第59-76页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·样品的准备及实验条件 | 第59-60页 |
| ·工作电压随氧化时间的变化 | 第60-61页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜特性随氧化时间的变化 | 第61-67页 |
| ·陶瓷膜厚度和成膜速率 | 第61-62页 |
| ·陶瓷膜的相组成及其含量 | 第62-64页 |
| ·陶瓷膜的表面形貌 | 第64-67页 |
| ·j_a及j_c／j_a对陶瓷膜性能的影响 | 第67-74页 |
| ·陶瓷膜厚度 | 第67-69页 |
| (1) j_a对陶瓷膜厚度的影响 | 第67-68页 |
| (2) j_c／j_a对陶瓷膜厚度的影响 | 第68-69页 |
| ·陶瓷膜的相组成及其含量 | 第69-72页 |
| (1) j_a对陶瓷膜相组成的影响 | 第69-70页 |
| (2) j_c／j_a对陶瓷膜相组成的影响 | 第70-72页 |
| ·陶瓷膜的表面形貌 | 第72-74页 |
| (1) j_a对陶瓷膜表面形貌的影响 | 第72-73页 |
| (2) j_c／j_a对陶瓷膜表面形貌的影响 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 电解液参数对微弧氧化陶瓷膜特性的影响 | 第76-89页 |
| ·引言 | 第76页 |
| ·样品的准备及实验条件 | 第76-77页 |
| ·电解液对临界电击穿电压的影响 | 第77-78页 |
| ·电解液对陶瓷膜特性的影响 | 第78-88页 |
| ·陶瓷膜的生长速率和相组成随时间的变化 | 第78-82页 |
| (1) 实验现象 | 第79页 |
| (2) 陶瓷膜厚度和成膜速率 | 第79-80页 |
| (3) 陶瓷膜的相组成及其含量 | 第80-82页 |
| ·主电解质对陶瓷膜特性的影响 | 第82-86页 |
| (1) 陶瓷膜厚度 | 第82-83页 |
| (2) 陶瓷膜相组成及其含量 | 第83-86页 |
| ·Na_3PO_4体系添加剂对陶瓷膜特性的影响 | 第86-88页 |
| (1) 添加剂Na_2B_4O_7浓度对陶瓷膜厚度的影响 | 第86页 |
| (2) 添加剂Na_2B_4O_7浓度对陶瓷膜相组成的影响 | 第86-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 第六章 结论 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-98页 |
| 致谢 | 第98页 |