| 内容提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·立方氮化硼的研究背景与发展 | 第7-11页 |
| ·本论文的主要研究工作 | 第11-13页 |
| 第二章 立方氮化硼的结构、性质和应用 | 第13-31页 |
| ·立方氮化硼的晶体结构 | 第13-15页 |
| ·立方氮化硼晶体的基本性质 | 第15-23页 |
| ·立方氮化硼晶体的合成 | 第23-27页 |
| ·立方氮化硼晶体的应用 | 第27-31页 |
| 第三章 立方氮化硼线性电光效应的研究 | 第31-71页 |
| ·非线性极化与线性电光效应 | 第31-40页 |
| ·立方氮化硼晶体加电场后的折射率变化 | 第40-48页 |
| ·电场方向沿方向 | 第40-45页 |
| ·电场方向在面内 | 第45-48页 |
| ·立方氮化硼二阶非线性极化率的测量 | 第48-63页 |
| ·立方氮化硼样品的实际情况 | 第49-50页 |
| ·横向电光调制的实验方案 | 第50-51页 |
| ·利用横向电光调制测量立方氮化硼二阶非线性极化率的理论推导 | 第51-57页 |
| ·利用横向电光调制测量立方氮化硼二阶非线性极化率的实验 | 第57-60页 |
| ·具有补偿静态相位延迟功能的横向电光调制器结构 | 第60-63页 |
| ·立方氮化硼晶体在外部电光检测系统中的应用 | 第63-68页 |
| ·电光检测概述 | 第63-64页 |
| ·电光检测的空间分辨率问题 | 第64-66页 |
| ·利用立方氮化硼的线性电光效应进行外部电光检测 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-71页 |
| 第四章 立方氮化硼紫外光电效应的研究 | 第71-99页 |
| ·宽禁带半导体紫外光电探测器的研究现状 | 第71-75页 |
| ·立方氮化硼应用于紫外光电探测的优势 | 第75-76页 |
| ·立方氮化硼产生光电效应的物理机制 | 第76-85页 |
| ·单光子响应 | 第77页 |
| ·双光子响应 | 第77-85页 |
| ·MSM结构立方氮化硼样品的工作原理 | 第85-89页 |
| ·MSM结构立方氮化硼样品的制作 | 第89-92页 |
| ·第Ⅰ种型号立方氮化硼单晶MSM结构样品的制作 | 第89-91页 |
| ·第Ⅱ种型号立方氮化硼单晶MSM结构样品的制作 | 第91-92页 |
| ·MSM结构立方氮化硼样品光电响应的实验研究 | 第92-97页 |
| ·本章小结 | 第97-99页 |
| 第五章 总结与展望 | 第99-101页 |
| 参考文献 | 第101-115页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第115-117页 |
| 致谢 | 第117-118页 |
| 中文摘要 | 第118-120页 |
| ABSTRACT | 第120-122页 |