化学溶液沉积法制备GdBiO3缓冲层的工艺研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-29页 |
| ·超导材料的发展 | 第12-13页 |
| ·超导理论的发展 | 第13-14页 |
| ·超导材料类型及特点 | 第14-15页 |
| ·高温超导材料 | 第15-19页 |
| ·高温超导材料的结构 | 第15-17页 |
| ·高温超导体导电机制 | 第17-18页 |
| ·高温超导材料的应用 | 第18-19页 |
| ·高温超导薄膜 | 第19-28页 |
| ·高温超导薄膜的构造 | 第20页 |
| ·高温超导薄膜的衬底 | 第20-21页 |
| ·高温超导薄膜的缓冲层 | 第21-22页 |
| ·高温超导薄膜的制备方法 | 第22-23页 |
| ·高温超导薄膜外延生长机理 | 第23-28页 |
| ·本论文的选题及研究思路 | 第28-29页 |
| 第2章 缓冲层概述 | 第29-36页 |
| ·缓冲层及其发展情况 | 第29-31页 |
| ·涂层导体的缓冲层 | 第31-32页 |
| ·缓冲层材料 | 第32-34页 |
| ·简单氧化物缓冲层 | 第32-33页 |
| ·复合氧化物缓冲层 | 第33-34页 |
| ·新缓冲层材料的探索 | 第34-36页 |
| 第3章 实验方法及原理 | 第36-49页 |
| ·实验思路和方案 | 第36-37页 |
| ·化学溶液沉积法简介 | 第37页 |
| ·实验设备及测试仪器 | 第37-48页 |
| ·差热分析(DTA)介绍 | 第38-39页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第39-45页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第45-47页 |
| ·台阶仪 | 第47-48页 |
| ·黏度计 | 第48页 |
| ·PH计 | 第48页 |
| ·实验使用的主要化学药品 | 第48-49页 |
| 第4章 单晶基底上制备GBO缓冲层 | 第49-71页 |
| ·单晶基底 | 第50-52页 |
| ·单晶基底的选择与清洗 | 第50-52页 |
| ·GBO前驱胶体的制备 | 第52-58页 |
| ·原料的选取 | 第52-53页 |
| ·前驱胶体的制备 | 第53-58页 |
| ·GBO与STO的晶体结构特点 | 第58-60页 |
| ·涂敷 | 第60-62页 |
| ·热处理 | 第62-64页 |
| ·前驱物热分解性质 | 第63页 |
| ·GBO外延膜的一般热处理 | 第63-64页 |
| ·在单晶STO上制备GBO | 第64-71页 |
| ·用含水CSD制备GBO | 第64-66页 |
| ·用无水CSD制备GBO | 第66-71页 |
| 第5章 热处理工艺对GBO外延膜的影响 | 第71-89页 |
| ·升温速率对GBO的影响 | 第71-82页 |
| ·分解过程中的升温速率对GBO的影响 | 第71-80页 |
| ·成相过程中的升温速率对GBO的影响 | 第80-82页 |
| ·成相温度对GBO薄膜的影响 | 第82-85页 |
| ·气氛对GBO薄膜外延生长的影响 | 第85-89页 |
| 第6章 其它REBiO_3缓冲层在单晶上的制备 | 第89-97页 |
| ·REBiO_3的晶体结构 | 第89-93页 |
| ·EuBiO_3的制备研究 | 第93-96页 |
| ·在单晶STO上制备EBO | 第94-95页 |
| ·Eu(2-x)Bi_xO_3的制备研究 | 第95-96页 |
| ·REBiO_3上制备超导层的研究 | 第96-97页 |
| 结论 | 第97-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-110页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第110页 |
