| 内容提要 | 第1-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-34页 |
| ·选题的意义 | 第12-13页 |
| ·钛金属的特点及其应用现状 | 第13-16页 |
| ·钛及其合金分类 | 第13-14页 |
| ·钛金属的特点 | 第14-15页 |
| ·钛金属的应用 | 第15-16页 |
| ·影响钛金属应用的主要问题 | 第16页 |
| ·MAO 技术研究概况 | 第16-19页 |
| ·MAO 技术简介及特点 | 第16-17页 |
| ·MAO 的发展和现状 | 第17-19页 |
| ·MAO 膜制备的工艺方法 | 第19-21页 |
| ·酸性处理液氧化法 | 第19-20页 |
| ·碱性处理液氧化法 | 第20页 |
| ·直流氧化法 | 第20页 |
| ·交流氧化法 | 第20-21页 |
| ·单极性脉冲氧化法 | 第21页 |
| ·双极性脉冲氧化法 | 第21页 |
| ·MAO 机理简介 | 第21-30页 |
| ·MAO 的理化过程 | 第21-24页 |
| ·MAO 的电击穿机理 | 第24-30页 |
| ·热作用机理和机械作用机理 | 第25页 |
| ·电子雪崩机理 | 第25-26页 |
| ·电子雪崩的理论模型 | 第26-30页 |
| ·影响MAO 膜品质的因素 | 第30-31页 |
| ·处理液成分、浓度和温度的影响 | 第30页 |
| ·电学参数的影响 | 第30-31页 |
| ·阳极材料及表面状态的影响 | 第31页 |
| ·处理时间的影响 | 第31页 |
| ·工业纯钛MAO 膜层的组织结构 | 第31-32页 |
| ·工业纯钛MAO 技术存在的问题 | 第32-33页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第33-34页 |
| 第二章 MAO 膜的制备系统和测试方法 | 第34-40页 |
| ·MAO 膜的制备系统简介 | 第34-35页 |
| ·实验所用材料和试剂 | 第35页 |
| ·工业纯钛MAO 膜的制备流程 | 第35-36页 |
| ·MAO 的工艺参数设计 | 第36-37页 |
| ·MAO 膜的结构分析 | 第37-38页 |
| ·氧化膜厚度的测试 | 第37页 |
| ·氧化膜微观结构的测试 | 第37页 |
| ·氧化膜相结构的分析 | 第37-38页 |
| ·MAO 膜的理化性能测试 | 第38-40页 |
| ·试样的电化学阻抗谱测试 | 第38页 |
| ·试样的耐蚀性能评定 | 第38页 |
| ·试样的酸腐蚀测试 | 第38页 |
| ·试样的显微硬度测试 | 第38-39页 |
| ·氧化膜与基底结合强度的评定 | 第39-40页 |
| 第三章 电学参数和处理时间对工业纯钛MAO 膜特性的影响 | 第40-69页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·试样的制备及实验条件 | 第40页 |
| ·电压脉冲峰值对MAO 膜特性的影响 | 第40-48页 |
| ·膜厚的变化规律 | 第40-41页 |
| ·氧化膜的表面形貌分析 | 第41-44页 |
| ·氧化膜的相组成 | 第44-48页 |
| ·膜层的XRD 谱分析 | 第44-45页 |
| ·膜层的拉曼光谱分析 | 第45-48页 |
| ·电压脉冲频率对MAO 膜特性的影响 | 第48-54页 |
| ·膜厚的变化规律 | 第48-49页 |
| ·氧化膜的表面形貌分析 | 第49-51页 |
| ·氧化膜的相组成 | 第51-54页 |
| ·膜层的XRD 谱分析 | 第51-52页 |
| ·膜层的拉曼光谱分析 | 第52-54页 |
| ·电压脉冲占空比对MAO 膜特性的影响 | 第54-60页 |
| ·膜厚的变化规律 | 第54-55页 |
| ·氧化膜的表面形貌分析 | 第55-57页 |
| ·氧化膜的相组成 | 第57-60页 |
| ·膜层的XRD 谱分析 | 第57-59页 |
| ·膜层的拉曼光谱分析 | 第59-60页 |
| ·处理时间对MAO 膜特性的影响 | 第60-64页 |
| ·膜厚的变化规律 | 第60-61页 |
| ·氧化膜的表面形貌分析 | 第61-62页 |
| ·膜层的相组成分析 | 第62-64页 |
| ·MAO 膜的生长过程分析 | 第64-68页 |
| ·钛表面初期钝化膜的形成阶段 | 第64-65页 |
| ·MAO 膜的快速生长阶段 | 第65-66页 |
| ·MAO 膜的局部生长阶段 | 第66-67页 |
| ·MAO 过程中能量的转换与控制 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第四章 处理液浓度对工业纯钛MAO 膜特性的影响 | 第69-89页 |
| ·引言 | 第69-70页 |
| ·Na_3PO_4 浓度对MAO 膜特性的影响 | 第70-74页 |
| ·对膜厚的影响 | 第70页 |
| ·对表面形貌的影响 | 第70-73页 |
| ·对膜层相组成的影响 | 第73-74页 |
| ·Na_2SiO_3 浓度对MAO 膜特性的影响 | 第74-79页 |
| ·对膜厚的影响 | 第74-75页 |
| ·膜层的EDS 和XRD 谱分析 | 第75-78页 |
| ·对膜层微观结构的影响 | 第78-79页 |
| ·NaAlO_2 浓度对MAO 膜特性的影响 | 第79-84页 |
| ·对膜厚的影响 | 第80页 |
| ·对膜表面形貌的影响 | 第80-82页 |
| ·对膜层相组成的影响 | 第82-84页 |
| ·处理液电导率对MAO 过程的影响 | 第84-87页 |
| ·电导率对起弧电压的影响 | 第84-86页 |
| ·电导率对MAO 膜厚度的影响 | 第86-87页 |
| ·本章小结 | 第87-89页 |
| 第五章 工业纯钛MAO 膜的理化特性研究 | 第89-122页 |
| ·试样的耐蚀性能测试与研究 | 第89-96页 |
| ·电学参数对制备试样耐蚀性能的影响 | 第89-93页 |
| ·电压脉冲峰值对试样耐蚀性能的影响 | 第89-91页 |
| ·电压脉冲频率对试样耐蚀性能的影响 | 第91-92页 |
| ·电压脉冲占空比对试样耐蚀性能的影响 | 第92-93页 |
| ·处理时间对制备试样耐蚀性能的影响 | 第93-94页 |
| ·处理液浓度对制备试样耐蚀性的影响 | 第94-96页 |
| ·试样在强酸中的腐蚀测试与研究 | 第96-100页 |
| ·工业纯钛在强酸中的腐蚀速率 | 第96-98页 |
| ·试样在强酸中的腐蚀速率 | 第98-100页 |
| ·工业纯钛MAO 膜的电化学阻抗谱研究 | 第100-112页 |
| ·引言 | 第100-102页 |
| ·MAO 膜层的EIS 等效电路 | 第102-103页 |
| ·电学参数对制备试样EIS 的影响 | 第103-106页 |
| ·电压脉冲峰值对试样EIS 的影响 | 第103-105页 |
| ·电压脉冲频率对试样EIS 的影响 | 第105页 |
| ·电压脉冲占空比对试样EIS 的影响 | 第105-106页 |
| ·处理时间对制备试样EIS 的影响 | 第106-108页 |
| ·处理液浓度对制备试样EIS 的影响 | 第108-110页 |
| ·工业纯钛TA2 的EIS 研究 | 第110-112页 |
| ·试样的显微硬度测试与研究 | 第112-116页 |
| ·处理时间对MAO 膜表面显微硬度的影响 | 第112-113页 |
| ·电学参数对MAO 膜表面显微硬度的影响 | 第113-115页 |
| ·处理液种类对制备试样显微硬度的影响 | 第115-116页 |
| ·MAO 膜与基底结合强度的测试与研究 | 第116-120页 |
| ·电学参数对膜基结合强度的影响 | 第116-119页 |
| ·处理液种类对膜基结合强度的影响 | 第119-120页 |
| ·本章小结 | 第120-122页 |
| 总结 | 第122-124页 |
| 参考文献 | 第124-133页 |
| 博士期间发表的论文 | 第133-134页 |
| 致谢 | 第134-135页 |
| 中文摘要 | 第135-138页 |
| 英文摘要 | 第138-141页 |