摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 绪论 | 第12-25页 |
·引言 | 第12页 |
·TiO_2 光催化技术 | 第12-16页 |
·TiO_2 光催化原理 | 第12-13页 |
·TiO_2 的结构和表面性能 | 第13-14页 |
·TiO_2 光催化剂的合成 | 第14-16页 |
·TiO_2 光催化剂的改性 | 第16-21页 |
·贵金属沉积 | 第16-17页 |
·复合半导体 | 第17页 |
·离子掺杂 | 第17-18页 |
·光敏化 | 第18-20页 |
·表面还原处理 | 第20页 |
·表面螯合及衍生作用 | 第20-21页 |
·超强酸化 | 第21页 |
·TiO_2 光催化剂的应用研究 | 第21-23页 |
·光催化剂的固定化 | 第21-22页 |
·光催化氧化技术 | 第22-23页 |
·发展前景及展望 | 第23页 |
·本研究的目的和内容 | 第23-25页 |
第二章 实验部分 | 第25-31页 |
·实验试剂与仪器 | 第25页 |
·掺杂改性光催化剂的制备 | 第25-27页 |
·纳米纯TiO_2 的制备 | 第25-26页 |
·Ni/S/TiO_2 的制备 | 第26页 |
·Ni/N/TiO_2 的制备 | 第26页 |
·Co/N/TiO_2 光催化剂的制备 | 第26-27页 |
·Co/N/S/TiO_2 的制备 | 第27页 |
·活性炭负载型光催化剂的制备 | 第27-28页 |
·活性炭(AC)的预处理 | 第27-28页 |
·负载型光催化剂Co/N/TiO_2-AC 和Co/N/S/TiO_2-AC 的SG 法制备 | 第28页 |
·腐植酸溶液的配制 | 第28页 |
·光催化剂的活性评价及表征方法 | 第28-31页 |
·活性评价方法 | 第28-30页 |
·表征方法 | 第30-31页 |
第三章 纳米 TiO_2光催化剂制备方法的研究 | 第31-35页 |
·光催化剂避光吸附效果比较 | 第31页 |
·光催化活性比较 | 第31-32页 |
·不同方法制备的TiO_2 的XRD 结果比较 | 第32-33页 |
·两种方法工艺过程的比较 | 第33-34页 |
·产量比较 | 第34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第四章 掺杂改性 TiO_2光催化剂的研究 | 第35-63页 |
·Ni、S 共掺杂改性TiO_2 | 第35-42页 |
·工艺优化 | 第35-37页 |
·Ni/S/TiO_2 光催化剂的活性评价 | 第37-38页 |
·溶液PH 值对Ni/S/TiO_2 催化活性的影响 | 第38页 |
·光催化剂的性能及结构表征 | 第38-42页 |
·本部分结论 | 第42页 |
·Ni、N 共掺杂改性TiO_2 | 第42-46页 |
·工艺优化 | 第42-43页 |
·Ni/N/TiO_2 光催化剂的活性评价 | 第43-44页 |
·光催化剂的性能及结构表征 | 第44-45页 |
·本部分结论 | 第45-46页 |
·Co、N 共掺杂改性TiO_2 | 第46-53页 |
·工艺优化 | 第46-48页 |
·Co/N/TiO_2 光催化剂的活性评价 | 第48-49页 |
·光催化剂的性能及结构表征 | 第49-53页 |
·本部分结论 | 第53页 |
·Co、N、S 共掺杂改性TiO_2 | 第53-63页 |
·工艺优化 | 第53-56页 |
·光催化剂的活性评价 | 第56-58页 |
·光催化剂的性能及结构表征 | 第58-62页 |
·本部分结论 | 第62-63页 |
第五章 活性炭负载改性纳米 TiO_2及其应用研究 | 第63-71页 |
·避光吸附时间的确定 | 第63页 |
·制备方法的选择 | 第63-64页 |
·Co/N/TiO_2-AC 的工艺优化 | 第64-66页 |
·Co/N/TiO_2-AC 和Co/N/S/TiO_2-AC 负载型光催化剂的活性研究 | 第66-67页 |
·降解活性艳蓝X-BR 溶液 | 第66-67页 |
·降解腐植酸溶液 | 第67页 |
·负载型光催化剂的性能及结构表征 | 第67-70页 |
·紫外-可见漫反射图谱分析 | 第67-68页 |
·光催化剂的XRD 表征(以Co/N/TiO_2-AC 为例) | 第68-69页 |
·光催化剂的XPS 表征(以Co/N/TiO_2-AC 为例) | 第69-70页 |
·本章小结 | 第70-71页 |
第六章 总结论 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
作者简历 | 第78-79页 |
详细摘要 | 第79页 |