| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-56页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 太阳能电池器件的分类 | 第13-19页 |
| 1.2.1 晶体硅太阳能电池 | 第13-14页 |
| 1.2.2 无机薄膜太阳能电池 | 第14-16页 |
| 1.2.3 有机太阳能电池 | 第16-17页 |
| 1.2.4 染料敏化太阳能电池 | 第17-19页 |
| 1.3 有机-无机杂化的钙钛矿太阳能电池 | 第19-21页 |
| 1.3.1 有机-无机杂化的钙钛矿材料 | 第19-20页 |
| 1.3.2 钙钛矿太阳能电池器件结构 | 第20-21页 |
| 1.3.3 钙钛矿太阳能电池工作机理 | 第21页 |
| 1.4 钙钛矿太阳能电池发展历史 | 第21-24页 |
| 1.5 钙钛矿太阳能电池存在的问题 | 第24-31页 |
| 1.5.1 稳定性 | 第24-26页 |
| 1.5.2 迟滞现象 | 第26-27页 |
| 1.5.3 铅的问题 | 第27-28页 |
| 1.5.4 柔性和大面积器件 | 第28-31页 |
| 1.6 钙钛矿太阳能电池性能提升的策略 | 第31-40页 |
| 1.6.1 钙钛矿层成分的调控 | 第31-35页 |
| 1.6.2 界面工程 | 第35-38页 |
| 1.6.3 路易斯碱处理 | 第38-39页 |
| 1.6.4 新型的钙钛矿薄膜制备技术 | 第39-40页 |
| 1.7 钙钛矿太阳能电池性能的表征 | 第40-41页 |
| 1.8 本论文的研究思路和主要内容 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-56页 |
| 第2章 非共轭聚合物聚乙烯吡咯烷酮(PVP)作为反型钙钛矿太阳能电池的界面层材料 | 第56-78页 |
| 2.1 引言 | 第56-58页 |
| 2.2 实验部分 | 第58-60页 |
| 2.2.1 原料与试剂 | 第58页 |
| 2.2.2 反型钙钛矿太阳能电池的制备 | 第58-59页 |
| 2.2.3 表征和测试 | 第59-60页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第60-70页 |
| 2.3.1 PVP作为界面层的器件光伏性能 | 第60-65页 |
| 2.3.2 薄膜UV-Vis吸收光谱和器件EQE测试 | 第65-66页 |
| 2.3.3 薄膜形貌和钙钛矿层结晶性 | 第66-67页 |
| 2.3.4 器件界面电荷传输性能和薄膜SKPM测试 | 第67-70页 |
| 2.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 第3章 氮掺杂的氧化镍作为高效反型钙钛矿太阳能电池的空穴传输材料 | 第78-100页 |
| 3.1 引言 | 第78-79页 |
| 3.2 实验部分 | 第79-82页 |
| 3.2.1 原料与试剂 | 第79-80页 |
| 3.2.2 氮掺杂的氧化镍前驱体溶液制备 | 第80页 |
| 3.2.3 反型钙钛矿太阳能电池的制备 | 第80-81页 |
| 3.2.4 表征和测试 | 第81-82页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第82-93页 |
| 3.3.1 基于不同空穴传输层的器件光伏性能 | 第82-84页 |
| 3.3.2 N:NiO_x和NiO_x薄膜XRD和XPS测试 | 第84-86页 |
| 3.3.3 N:NiO_x和NiO_x光学性能、电学性能和形貌的测试 | 第86-88页 |
| 3.3.4 以N:NiO_x和NiO_x为基底生长的钙钛矿薄膜质量 | 第88-91页 |
| 3.3.5 N:NiO_x和NiO_x器件EIS、迟滞性和稳定性测试 | 第91-93页 |
| 3.4 本章小结 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-100页 |
| 第4章 锡离子(Ⅳ)掺杂的氧化镍作为高效反型钙钛矿太阳能电池的空穴传输材料 | 第100-120页 |
| 4.1 引言 | 第100-101页 |
| 4.2 实验部分 | 第101-103页 |
| 4.2.1 原料与试剂 | 第101页 |
| 4.2.2 锡离子(Ⅳ)掺杂的氧化镍前驱体制备 | 第101页 |
| 4.2.3 反型钙钛矿太阳能电池的制备 | 第101-102页 |
| 4.2.4 表征和测试 | 第102-103页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第103-115页 |
| 4.3.1 基于不同空穴传输层的器件光伏性能 | 第103-105页 |
| 4.3.2 不同摩尔分数锡离子(Ⅳ)掺杂的氧化镍薄膜透光性和导电性 | 第105-106页 |
| 4.3.3 NiO_x和Sn:NiO_x器件界面电荷传输性能 | 第106-110页 |
| 4.3.4 NiO_x和Sn:NiO_x薄膜形貌、XRD和XPS测试 | 第110-112页 |
| 4.3.5 以NiO_x和Sn:NiO_x为基底上生长的钙钛矿薄膜质量 | 第112-113页 |
| 4.3.6 NiO_x和Sn:NiO_x器件迟滞性和稳定性 | 第113-115页 |
| 4.4 本章小结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-120页 |
| 第5章 总结与展望 | 第120-122页 |
| 5.1 全文总结 | 第120页 |
| 5.2 展望 | 第120-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第123-124页 |
