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立式低压化学气相沉积炉设计与试验研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-23页
    1.1 研究背景与意义第9-11页
    1.2 国内外研究现状第11-21页
    1.3 研究目标与内容第21-22页
    1.4 研究方法和技术路线第22-23页
第二章 LPCVD工艺机理分析及方案研究第23-29页
    2.1 LPCVD工艺机理分析第23-25页
    2.2 LPCVD方案研究第25-28页
    2.3 本章小结第28-29页
第三章 关键系统特性分析第29-47页
    3.1 有限元模型第29-30页
    3.2 气流场特性分析第30-32页
    3.3 温度场特性分析第32-34页
    3.4 工艺气体流体特性分析第34-36页
    3.5 微环境系统特性分析第36-41页
    3.6 气路系统特性分析第41-45页
    3.7 本章小结第45-47页
第四章 关键部件优化设计及性能分析第47-81页
    4.1 反应腔室优化设计第47-66页
    4.2 部件性能分析第66-75页
    4.3 整机性能分析第75-79页
    4.4 本章小结第79-81页
第五章 温度场参数优化试验第81-88页
    5.1 试验设计第81-83页
    5.2 单因素试验第83-85页
    5.3 正交试验第85-86页
    5.4 模拟工艺试验第86-87页
    5.5 本章小结第87-88页
第六章 整机工艺性能试验第88-93页
    6.1 试验目的第88页
    6.2 试验样机试制第88-89页
    6.3 试验指标第89页
    6.4 试验条件第89-90页
    6.5 试验结果第90-91页
    6.6 本章小结第91-93页
第七章 结论与建议第93-96页
    7.1 主要结论第93-94页
    7.2 创新点第94页
    7.3 进一步研究建议第94-96页
参考文献第96-103页
致谢第103-104页
个人简介第104页

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