| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 透明导电氧化物(TCO)概述 | 第12-19页 |
| 1.2 基于TCO的复合材料概述 | 第19-25页 |
| 1.2.1 TCO-金属复合薄膜及微纳结构 | 第21-23页 |
| 1.2.2 金属氮化物薄膜及TCO-TiN复合结构 | 第23-25页 |
| 1.3 本文的主要研究内容和创新点 | 第25-28页 |
| 第2章 实验、测试和原理 | 第28-40页 |
| 2.1 磁控溅射原理,技术和设备 | 第28-30页 |
| 2.2 基于ITO的复合薄膜的制备方法 | 第30-32页 |
| 2.2.1 ITO-Ag系列复合薄膜制备方法 | 第30-31页 |
| 2.2.2 ITO-TiN-ITO系列复合结构制备方法 | 第31-32页 |
| 2.3 基于ITO的复合薄膜和结构的测试方法 | 第32-36页 |
| 2.3.1 物理结构测试 | 第32-33页 |
| 2.3.2 电学特性测试 | 第33页 |
| 2.3.3 光学特性测试 | 第33-34页 |
| 2.3.4 棱镜耦合测试 | 第34-35页 |
| 2.3.5 微纳结构制备和测试 | 第35-36页 |
| 2.4 通过椭圆偏振光谱法获取光学常数 | 第36-38页 |
| 2.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 第3章 ITO-Ag复合薄膜的制备和等离子体特性研究 | 第40-56页 |
| 3.1 ITO-Ag复合薄膜的实验制备结果 | 第40-41页 |
| 3.2 ITO-Ag复合薄膜的结构、光电特性 | 第41-49页 |
| 3.2.1 物理结构和生长过程分析 | 第41-44页 |
| 3.2.2 椭偏拟合的Drude模型和Drude-Lorentz模型 | 第44-45页 |
| 3.2.3 介电常数和ENZ区域调制 | 第45-49页 |
| 3.3 ITO-Ag复合薄膜应用于近红外等离子体材料的验证 | 第49-54页 |
| 3.3.1 ITO-Ag微纳结构的制备和LSPR | 第49-52页 |
| 3.3.2 棱镜耦合和SPR | 第52-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 ITO-TiN-ITO复合结构的制备和等离子体特性研究 | 第56-68页 |
| 4.1 ITO-TiN-ITO复合结构的实验制备结果 | 第56-57页 |
| 4.2 ITO-TiN-ITO复合结构的结构、光电特性 | 第57-61页 |
| 4.2.1 超薄、连续的TiN夹层 | 第57-58页 |
| 4.2.2 复合结构的优良光电特性 | 第58-61页 |
| 4.3 ITO-TiN-ITO复合结构的表面等离子体共振特性 | 第61-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 总结与展望 | 第68-72页 |
| 5.1 本文总结 | 第68-69页 |
| 5.2 未来展望 | 第69-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 作者简历 | 第80页 |
