| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-29页 |
| 1.1 场发射阴极 | 第14-19页 |
| 1.1.1 金属场致电子发射理论 | 第14-16页 |
| 1.1.2 发射体形貌对场发射性能的影响 | 第16-17页 |
| 1.1.3 场致电子发射阴极材料 | 第17-19页 |
| 1.2 LaB_6场发射阴极 | 第19-23页 |
| 1.2.1 LaB_6的晶体结构 | 第19-20页 |
| 1.2.2 LaB_6的性质及性能 | 第20页 |
| 1.2.3 LaB_6场致电子发射机理 | 第20-21页 |
| 1.2.4 LaB_6场发射阴极的应用 | 第21-22页 |
| 1.2.5 LaB_6薄膜场发射阴极的制备方法及研究现状 | 第22-23页 |
| 1.3 纳米结构阵列的制备及研究现状 | 第23-26页 |
| 1.3.1 有序纳米结构阵列的制备方法 | 第24页 |
| 1.3.2 AAO模板辅助法制备纳米结构阵列 | 第24-26页 |
| 1.4 调控纳米结构阵列形貌的方法 | 第26-27页 |
| 1.5 研究背景、意义和主要内容 | 第27-29页 |
| 第2章 实验方法 | 第29-36页 |
| 2.1 实验材料及仪器 | 第29页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第29页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第29页 |
| 2.2 实验方案和流程 | 第29-33页 |
| 2.2.1 阳极氧化模板的制备 | 第30-32页 |
| 2.2.2 LaB_6纳米结构阵列薄膜的沉积装置及工艺 | 第32-33页 |
| 2.2.3 湿法刻蚀 | 第33页 |
| 2.2.4 Ar离子轰击处理工艺 | 第33页 |
| 2.3 测试方法及原理 | 第33-36页 |
| 2.3.1 X射线衍射 | 第33-34页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第34页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱 | 第34页 |
| 2.3.4 拉曼光谱 | 第34页 |
| 2.3.5 场发射性能测试 | 第34-36页 |
| 第3章 阳极氧化铝模板的制备 | 第36-44页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 截面特征形貌阳极氧化铝模板的制备及分析 | 第36-38页 |
| 3.3 孔直径特征形貌阳极氧化铝模板的制备及分析 | 第38-40页 |
| 3.4 孔深特征阳极氧化铝模板的制备及分析 | 第40-42页 |
| 3.5 小结 | 第42-44页 |
| 第4章 LaB_6纳米结构阵列制备及场发射性能研究 | 第44-56页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 磁控溅沉积LaB_6纳米结构阵列的结构表征 | 第44-46页 |
| 4.3 模板截面特征对纳米结构阵列形貌及性能的影响 | 第46-49页 |
| 4.3.1 模板截面特征对形貌的影响 | 第46-48页 |
| 4.3.2 截面特征模板辅助制备纳米结构的场发射性能 | 第48-49页 |
| 4.4 模板孔直径特征对纳米结构阵列形貌及性能的影响 | 第49-51页 |
| 4.4.1 模板孔径特征对形貌的影响 | 第49-50页 |
| 4.4.2 孔径特征模板辅助制备纳米结构的场发射性能 | 第50-51页 |
| 4.5 孔深特征模板对纳米结构阵列形貌及性能的影响 | 第51-54页 |
| 4.5.1 模板孔深特征对形貌的影响 | 第51-53页 |
| 4.5.2 孔深特征模板辅助制备纳米结构的场发射性能 | 第53-54页 |
| 4.6 小结 | 第54-56页 |
| 第5章 离子束轰击LaB_6纳米管阵列及性能研究 | 第56-65页 |
| 5.1 引言 | 第56页 |
| 5.2 离子束轰击对纳米管阵列形貌的调节作用 | 第56-59页 |
| 5.2.1 斜角轰击对纳米管阵列形貌的调节作用 | 第56-57页 |
| 5.2.2 垂直轰击对纳米管阵列形貌的调节作用 | 第57-59页 |
| 5.3 离子束轰击后表面结构和物相 | 第59-61页 |
| 5.3.1 离子轰击后纳米结构的物相分析 | 第59页 |
| 5.3.2 离子轰击后纳米阵列的表面结构分析 | 第59-61页 |
| 5.4 离子束轰击后场发射性能的优化及机理分析 | 第61-63页 |
| 5.4.1 离子轰击后纳米结构的场发射性能 | 第61-62页 |
| 5.4.2 离子轰击后场发射增强的机理分析 | 第62-63页 |
| 5.5 小结 | 第63-65页 |
| 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 附录A 读研期间发表学术论文和参与科研项目 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
