| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·电弧离子镀 | 第10-11页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀 | 第11-14页 |
| ·离子镀内壁薄膜沉积技术难点及研究现状 | 第14-15页 |
| ·内壁薄膜沉积的难点 | 第14页 |
| ·离子镀内壁薄膜沉积技术的研究现状 | 第14-15页 |
| ·DLC薄膜的概述 | 第15-17页 |
| ·DLC薄膜 | 第15页 |
| ·DLC薄膜的性能 | 第15-16页 |
| ·类金刚石薄膜的应用 | 第16-17页 |
| ·本论文工作的内容和意义 | 第17-18页 |
| 2 薄膜的制备与表征方法 | 第18-25页 |
| ·实验设备简介 | 第18-19页 |
| ·实验方法 | 第19-21页 |
| ·实验材料 | 第19-20页 |
| ·试样的镀前处理 | 第20-21页 |
| ·实验思路 | 第21页 |
| ·薄膜的轰击工艺 | 第21页 |
| ·薄膜的表征和分析方法 | 第21-25页 |
| ·薄膜厚度表征 | 第21-22页 |
| ·Raman光谱 | 第22页 |
| ·薄膜摩擦学性能 | 第22-23页 |
| ·表面形貌表征 | 第23页 |
| ·薄膜粗糙度表征 | 第23-24页 |
| ·薄膜硬度测试 | 第24-25页 |
| 3 等离子体磁场内引基础性研究 | 第25-29页 |
| ·实验工艺 | 第25-26页 |
| ·管子内壁TiN薄膜的厚度 | 第26页 |
| ·管子内壁TiN薄膜的表面形貌 | 第26-27页 |
| ·管子内壁TiN薄膜的显微硬度 | 第27-28页 |
| ·磁场对管内壁沉积TiN薄膜的影响 | 第28-29页 |
| 4 单磁铁辅助时模具内壁沉积DLC薄膜 | 第29-46页 |
| ·单磁铁深孔模具内壁沉积DLC薄膜初步实验 | 第29-35页 |
| ·磁铁位置及实验工艺 | 第29-30页 |
| ·模具内壁DLC薄膜的宏观照片 | 第30-31页 |
| ·模具内壁DLC薄膜的Raman光谱 | 第31-33页 |
| ·模具内壁DLC薄膜的表面形貌 | 第33-34页 |
| ·模具内壁DLC薄膜的表面粗糙度 | 第34-35页 |
| ·单磁铁深孔模具内壁沉积DLC薄膜初步实验小结 | 第35页 |
| ·单磁铁深孔模具内壁沉积DLC薄膜优化实验 | 第35-43页 |
| ·磁铁位置及实验工艺 | 第36页 |
| ·优化实验模具内壁DLC薄膜的宏观形貌 | 第36-37页 |
| ·优化实验模具内壁DLC薄膜的膜厚 | 第37-39页 |
| ·优化实验模具内壁DLC薄膜的Raman光谱 | 第39-40页 |
| ·优化实验模具内壁DLC薄膜的纳米硬度及弹性模量 | 第40-41页 |
| ·优化实验模具内壁DLC薄膜的表面形貌 | 第41-43页 |
| ·优化实验模具内壁DLC薄膜的表面粗糙度 | 第43页 |
| ·几个重要问题的讨论 | 第43-46页 |
| ·磁场对等离子的影响 | 第43-45页 |
| ·模具内壁DLC薄膜的深径比分析 | 第45页 |
| ·单磁铁辅助深孔模具内壁沉积DLC薄膜优化工艺小结 | 第45-46页 |
| 5 双磁铁辅助时模具内壁沉积DLC薄膜 | 第46-58页 |
| ·双磁铁深孔模具内壁沉积DLC薄膜初步实验 | 第46-52页 |
| ·双磁铁不同磁铁位置组合实验 | 第46-49页 |
| ·双磁铁平行放置调整夹角实验 | 第49-51页 |
| ·双磁铁深孔模具内壁沉积DLC薄膜初步实验小结 | 第51-52页 |
| ·双磁铁深孔模具内壁沉积DLC薄膜优化实验 | 第52-56页 |
| ·磁铁位置及实验工艺 | 第52-53页 |
| ·双磁铁优化实验薄膜宏观形貌 | 第53页 |
| ·双磁铁优化实验薄膜厚度 | 第53-54页 |
| ·双磁铁优化实验薄膜Raman光谱 | 第54-55页 |
| ·双磁铁优化实验薄膜纳米硬度及弹性模量 | 第55页 |
| ·双磁铁优化实验薄膜摩擦性能 | 第55-56页 |
| ·几个重要问题的讨论 | 第56-58页 |
| ·深径比分析 | 第56-57页 |
| ·均匀性分析 | 第57页 |
| ·双磁铁深孔模具内壁沉积DLC薄膜优化实验小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |