VB2涂层的制备、结构、性能及摩擦学行为研究
摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-25页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 表面技术 | 第10-16页 |
1.2.1 主要PVD技术 | 第10-13页 |
1.2.2 PVD结构模型 | 第13-14页 |
1.2.3 PVD薄膜生长过程 | 第14-16页 |
1.3 材料选择 | 第16-20页 |
1.3.1 PVD硬质涂层 | 第16-19页 |
1.3.2 硼化物涂层的发展 | 第19-20页 |
1.4 涂层的摩擦学研究 | 第20-23页 |
1.4.1 摩擦系数 | 第20-21页 |
1.4.2 摩擦振动和噪声 | 第21页 |
1.4.3 摩擦热 | 第21-22页 |
1.4.4 磨损机制 | 第22-23页 |
1.5 本文选题的意义和研究内容 | 第23-25页 |
2 实验方法和材料 | 第25-34页 |
2.1 VB2涂层的制备 | 第25-27页 |
2.1.1 VB2涂层的制备装置 | 第25页 |
2.1.2 VB2涂层的制备参数及基片 | 第25-27页 |
2.2 VB2涂层结构分析设备 | 第27-29页 |
2.2.1 X射线衍射仪(XRD) | 第27-28页 |
2.2.2 场发射电子扫描显微镜(FESEM) | 第28页 |
2.2.3 原子力显微镜(AFM) | 第28-29页 |
2.3 涂层性能测试 | 第29-33页 |
2.3.1 涂层的硬度及模量 | 第29-30页 |
2.3.2 涂层膜基结合力 | 第30页 |
2.3.3 涂层维氏压痕测量 | 第30-31页 |
2.3.4 涂层残余应力 | 第31-32页 |
2.3.5 摩擦系数和磨损率 | 第32-33页 |
2.4 本章小结 | 第33-34页 |
3 涂层微观结构分析 | 第34-45页 |
3.1 沉积温度的影响 | 第34-37页 |
3.2 基片偏压的影响 | 第37-40页 |
3.3 中频频率的影响 | 第40-44页 |
3.4 本章小结 | 第44-45页 |
4 涂层的机械性能 | 第45-58页 |
4.1 硬度与压入模量 | 第45-50页 |
4.1.1 主要影响因素 | 第45页 |
4.1.2 结果及分析 | 第45-48页 |
4.1.3 硬度差异证明 | 第48-50页 |
4.2 结合力 | 第50-52页 |
4.2.1 结合力判断标准 | 第50-51页 |
4.2.2 涂层结合力 | 第51-52页 |
4.3 韧性 | 第52-57页 |
4.3.1 韧性主要测试方法 | 第53-54页 |
4.3.2 主要结果 | 第54-57页 |
4.4 本章小结 | 第57-58页 |
5 涂层的摩擦学行为研究 | 第58-68页 |
5.1 室温干摩擦 | 第59-65页 |
5.1.1 低压载 | 第60-63页 |
5.1.2 高载荷 | 第63-65页 |
5.2 高温摩擦 | 第65-67页 |
5.3 本章小结 | 第67-68页 |
6 结论与展望 | 第68-70页 |
6.1 结论 | 第68页 |
6.2 展望 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-77页 |
附录 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第77-78页 |
致谢 | 第78页 |