| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 文献综述 | 第8-21页 |
| ·我国的能源现状 | 第8-9页 |
| ·太阳能的利用 | 第9-10页 |
| ·光谱选择性吸收薄膜 | 第10-14页 |
| ·基本类型 | 第10-11页 |
| ·吸收原理 | 第11-12页 |
| ·设计 | 第12-14页 |
| ·氮化钛薄膜(TiNx)简介 | 第14-19页 |
| ·氮化钛薄膜的结构与性能 | 第14-16页 |
| ·影响氮化钛薄膜结构与性能的因素 | 第16-17页 |
| ·氮化钛薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| ·氧化钛(TiO_2)薄膜简介 | 第19-20页 |
| ·本课题主要内容和意义 | 第20-21页 |
| ·主要内容 | 第20页 |
| ·研究意义 | 第20-21页 |
| 第2章 实验 | 第21-34页 |
| ·磁控溅射技术介绍 | 第21-24页 |
| ·反应磁控溅射原理 | 第22-23页 |
| ·反应溅射过程中的"打火"及"靶中毒" | 第23-24页 |
| ·实验过程 | 第24-29页 |
| ·实验研究路线 | 第24-25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·实验材料 | 第26-28页 |
| ·基片的选择 | 第26-27页 |
| ·基片的清洗 | 第27-28页 |
| ·实验步骤 | 第28-29页 |
| ·薄膜的结构与性能分析 | 第29-33页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第29页 |
| ·表面形貌分析 | 第29-30页 |
| ·XRD测试 | 第30-31页 |
| ·紫外—可见—近红外光谱测试 | 第31页 |
| ·n&k Analyzer1200薄膜分析仪 | 第31-33页 |
| ·实验结果分析 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 实验结果与讨论 | 第34-56页 |
| ·TiNx系薄膜 | 第34-46页 |
| ·沉积TiNx薄膜的基准工艺参数 | 第34-35页 |
| ·基准工艺参数下沉积的TiNx薄膜性能分析 | 第35-37页 |
| ·沉积时间对TiNx薄膜结晶取向的影响 | 第37-39页 |
| ·氮气流量对TiNx薄膜结构与性能的影响 | 第39-43页 |
| ·不同氮气流量沉积TiNx薄膜的XRD | 第39-40页 |
| ·不同氮气流量沉积TiNx薄膜表面形貌 | 第40-41页 |
| ·不同氮气流量沉积TiNx薄膜的光学性能 | 第41-43页 |
| ·不同溅射电流沉积TiNx薄膜的光学性能 | 第43-46页 |
| ·不同溅射电流沉积TiNx薄膜的XRD | 第43-44页 |
| ·不同溅射电流沉积TiNx薄膜的表面形貌 | 第44-45页 |
| ·不同溅射电流沉积TiNx薄膜的光学性能 | 第45-46页 |
| ·TiO_(2-x)系薄膜 | 第46-49页 |
| ·沉积TiO_(2-x)薄膜的基准工艺参数 | 第46-47页 |
| ·不同氧流量对TiO_(2-x)薄膜性能的影响 | 第47-49页 |
| ·沉积在Cu基底上的Ti-TiNx-TiO_(2-x)多层膜 | 第49-54页 |
| ·N_2气流量对多层膜光学性能的影响 | 第50-51页 |
| ·实验过程 | 第50页 |
| ·实验结果分析 | 第50-51页 |
| ·各膜层厚度变化对多层膜光学性能的影响 | 第51-52页 |
| ·沉积TiO_(2-x)薄膜的工作电流对多层膜光学性能的影响 | 第52-53页 |
| ·各层均匀薄膜厚度对多层膜光学性能的影响 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 结论 | 第56-58页 |
| ·TiNx单层薄膜 | 第56页 |
| ·单层TiO_(2-x)薄膜 | 第56-57页 |
| ·Ti-TiNx-TiO_(2-x)多层膜 | 第57页 |
| ·不足与展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第65页 |