| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-35页 |
| ·芯片毛细管电泳简介 | 第10-11页 |
| ·理论部分 | 第11-13页 |
| ·电渗流 | 第11-12页 |
| ·迁移时间、分离效率和分离度 | 第12-13页 |
| ·微流控芯片材料与制作技术 | 第13-16页 |
| ·微流控芯片的材料 | 第13-14页 |
| ·聚合物微流控芯片的制作 | 第14-16页 |
| ·PDMS芯片表面改性及修饰 | 第16-20页 |
| ·高能场处理PDMS芯片 | 第16-17页 |
| ·动态修饰PDMS芯片 | 第17页 |
| ·层层组装修饰PDMS芯片 | 第17-18页 |
| ·本体修饰PDMS芯片 | 第18页 |
| ·PDMS芯片表面共价嫁接 | 第18-19页 |
| ·化学气相沉积 | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶技术 | 第19页 |
| ·微珠修饰技术 | 第19-20页 |
| ·微流控芯片检测器 | 第20-26页 |
| ·光学检测器 | 第20-22页 |
| ·质谱检测器 | 第22页 |
| ·电化学检测器 | 第22-25页 |
| ·电化学检测方法的应用前景 | 第25-26页 |
| ·微流控芯片发展展望 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-35页 |
| 第2章 二氧化钛纳米粒子修饰的PDMS微流控芯片用于氨基酸的分离及检测 | 第35-50页 |
| ·引言 | 第35-36页 |
| ·实验部分 | 第36-39页 |
| ·试剂 | 第36页 |
| ·仪器 | 第36-37页 |
| ·PDMS芯片制作 | 第37页 |
| ·TiO_2纳米粒子的合成 | 第37页 |
| ·PDMS芯片的修饰 | 第37-38页 |
| ·电泳装置 | 第38页 |
| ·碳纤维电极的制备及电化学检测 | 第38-39页 |
| ·电渗流的测定 | 第39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-46页 |
| ·PDMS芯片表面修饰 | 第39-40页 |
| ·PDDA/TiO_2 NPs修饰的PDMS芯片上的电渗流 | 第40-41页 |
| ·氨基酸的电泳分离 | 第41-42页 |
| ·电泳条件的优化 | 第42-44页 |
| ·非电活性氨基酸的检测 | 第44-46页 |
| ·PDDA/TiO_2 NPs修饰芯片的稳定性和重现性 | 第46页 |
| ·结论 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第3章 非电活性氨基酸在铜电极上的直接安培检测 | 第50-64页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验部分 | 第51-54页 |
| ·试剂 | 第51页 |
| ·仪器 | 第51-52页 |
| ·实验过程 | 第52页 |
| ·PDMS芯片的修饰 | 第52-53页 |
| ·铜电极的制备及电化学检测 | 第53-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-60页 |
| ·电化学检测机理 | 第54页 |
| ·检测电位的选择 | 第54页 |
| ·铜电极位置的选择 | 第54页 |
| ·PDDA/TiO_2 NPs修饰芯片上的电渗流 | 第54-55页 |
| ·氨基酸在修饰芯片上的电泳分离 | 第55-56页 |
| ·电泳条件的优化 | 第56-59页 |
| ·稳定性和重现性 | 第59-60页 |
| ·结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 第4章 磁性纳米粒子修饰的PDMS芯片用于氨基酸的手性分离 | 第64-79页 |
| ·引言 | 第64-65页 |
| ·实验部分 | 第65-67页 |
| ·试剂 | 第65页 |
| ·实验过程 | 第65-66页 |
| ·Fe_3O_4@Au-BSA复合物的制备 | 第66页 |
| ·PDMS芯片的修饰 | 第66-67页 |
| ·芯片上的手性分离 | 第67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-74页 |
| ·Fe_3O_4@Au-BSA复合物的紫外-可见光谱表征 | 第67-68页 |
| ·Fe_3O_4@Au-BSA复合物修饰芯片上的电渗流 | 第68-69页 |
| ·氨基酸的手性分离 | 第69-71页 |
| ·缓冲液pH的选择 | 第71-72页 |
| ·缓冲液浓度的选择 | 第72页 |
| ·分离电压的选择 | 第72-73页 |
| ·Fe_3O_4@Au-BSA复合物修饰芯片的稳定性和重现性 | 第73-74页 |
| ·结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第80页 |
