摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第12-28页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 钙钛矿材料基本性质简介 | 第13-17页 |
1.2.1 钙钛矿晶体结构 | 第13-14页 |
1.2.2 钙钛矿能带和带隙调谐 | 第14-15页 |
1.2.3 钙钛矿光学性能 | 第15-16页 |
1.2.4 钙钛矿电学性能 | 第16-17页 |
1.3 钙钛矿材料的制备技术简介 | 第17-19页 |
1.3.1 溶液法 | 第17-18页 |
1.3.2 双源共蒸发技术 | 第18-19页 |
1.3.3 气相辅助溶液(VASP)法 | 第19页 |
1.4 钙钛矿材料的应用及发展现状 | 第19-25页 |
1.4.1 太阳能电池 | 第20-21页 |
1.4.2 发光二极管 | 第21-24页 |
1.4.3 场效应晶体管 | 第24页 |
1.4.4 光电探测器 | 第24-25页 |
1.5 本论文的选题依据与研究内容 | 第25-28页 |
第二章 相关物理气相沉积技术以及主要材料表征技术 | 第28-42页 |
2.1 相关物理气相沉积技术 | 第28-33页 |
2.1.1 真空蒸镀 | 第28-30页 |
2.1.2 溅射沉积 | 第30-33页 |
2.2 主要表征分析手段 | 第33-41页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第33-35页 |
2.2.2 原子力显微镜(AFM) | 第35-36页 |
2.2.3 光致发光(PL) | 第36-39页 |
2.2.4 金相显微镜 | 第39-41页 |
2.3 本章小结 | 第41-42页 |
第三章 有机金属卤化物钙钛矿材料的制备和特性研究 | 第42-76页 |
3.1 引言 | 第42页 |
3.2 钙钛矿材料制备前准备工作 | 第42-43页 |
3.3 一步法制备有机金属卤化物材料及特性研究 | 第43-53页 |
3.3.1 旋涂速度对CH_3NH_3PbBr_3特性影响 | 第44-46页 |
3.3.2 退火时间对CH_3NH_3PbBr_3特性影响 | 第46-49页 |
3.3.3 退火温度对CH_3NH_3PbBr_3特性影响 | 第49-53页 |
3.4 两步法制备有机金属卤化物材料及特性研究 | 第53-72页 |
3.4.1 旋涂-浸泡法制备CH_3NH_3PbBr_3及特性研究 | 第53-65页 |
3.4.2 旋涂-旋涂法制备CH_3NH_3PbBr_3及特性研究 | 第65-72页 |
3.5 本章小结 | 第72-76页 |
第四章 无机金属卤化物钙钛矿材料的制备和特性研究 | 第76-102页 |
4.1 引言 | 第76页 |
4.2 蒸发-浸泡法制备CSPBBR_3薄膜及特性研究 | 第76-85页 |
4.2.1 蒸发速率对CsPbBr_3薄膜特性影响 | 第77-81页 |
4.2.2 浸泡时间对CsPbBr_3薄膜特性影响 | 第81-85页 |
4.3 蒸发-蒸发法制备CSPBBR_3薄膜及特性研究 | 第85-100页 |
4.3.1 蒸发顺序对CsPbBr_3薄膜特性影响 | 第85-90页 |
4.3.2 退火气氛对CsPbBr_3薄膜特性影响 | 第90-94页 |
4.3.3 退火温度对CsPbBr_3薄膜特性影响 | 第94-100页 |
4.4 本章小结 | 第100-102页 |
第五章 钙钛矿材料变温光致发光研究 | 第102-116页 |
5.1 引言 | 第102页 |
5.2 实验材料的制备 | 第102-103页 |
5.2.1 ZnO纳米棒衬底制备 | 第102-103页 |
5.2.2 CH_3NH_3PbI_(3?X)Cl_X样品制备 | 第103页 |
5.3 表征结果和讨论 | 第103-113页 |
5.3.1 ZnO纳米棒表面形貌表征 | 第103-104页 |
5.3.2 CH_3NH_3PbI_(3?X)Cl_X样品室温光学特性表征 | 第104-106页 |
5.3.3 CH_3NH_3PbI_(3?X)Cl_X样品变温PL测试表征 | 第106-113页 |
5.4 本章小结 | 第113-116页 |
第六章 钙钛矿LED传输层材料的制备和优化 | 第116-146页 |
6.1 引言 | 第116页 |
6.2 ZNO材料的制备及优化 | 第116-125页 |
6.2.1 溅射功率对ZnO材料表面形貌的影响 | 第117-119页 |
6.2.2 溅射压强对ZnO材料表面形貌的影响 | 第119-122页 |
6.2.3 溅射氩氧比对ZnO材料表面形貌的影响 | 第122-125页 |
6.3 NIO材料的制备及优化 | 第125-137页 |
6.3.1 溅射功率对NiO材料特性的影响 | 第125-129页 |
6.3.2 溅射压强对NiO材料特性的影响 | 第129-133页 |
6.3.3 溅射氩氧比对NiO材料特性的影响 | 第133-137页 |
6.4 AL_2O_3材料的制备及优化 | 第137-143页 |
6.4.1 溅射功率对Al_2O_3材料表面形貌的影响 | 第138-140页 |
6.4.2 溅射压强对Al_2O_3材料表面形貌的影响 | 第140-143页 |
6.5 本章小结 | 第143-146页 |
第七章 金属卤化物钙钛矿薄膜发光器件制备和特性研究 | 第146-172页 |
7.1 引言 | 第146页 |
7.2 基于有机金属卤化物钙钛矿薄膜的发光器件的制备和研究 | 第146-153页 |
7.2.1 器件的制备 | 第146-147页 |
7.2.2 实验结果及讨论 | 第147-153页 |
7.3 基于无机金属卤化物钙钛矿薄膜MIS结发光器件的制备和研究 | 第153-162页 |
7.3.1 器件的制备 | 第153-154页 |
7.3.2 实验结果及讨论 | 第154-162页 |
7.4 全无机金属卤化物钙钛矿的发光器件制备与研究 | 第162-169页 |
7.4.1 器件的制备 | 第162-163页 |
7.4.2 实验结果及讨论 | 第163-169页 |
7.5 本章小结 | 第169-172页 |
参考文献 | 第172-194页 |
结论 | 第194-198页 |
本论文的创新点 | 第198-200页 |
在学期间所取得的科研成果 | 第200-204页 |
致谢 | 第204-205页 |