| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 研究背景及选题意义 | 第10-14页 |
| 1.1.1 基于热光效应的光学器件 | 第10-12页 |
| 1.1.2 非晶硅薄膜热光特性研究意义 | 第12-14页 |
| 1.2 本文整体思路及内容安排 | 第14-16页 |
| 第二章 非晶硅薄膜的基础理论 | 第16-26页 |
| 2.1 非晶硅薄膜的结构与性质 | 第16-17页 |
| 2.2 非晶硅薄膜的制备 | 第17-22页 |
| 2.2.1 非晶硅薄膜制备方法 | 第17-18页 |
| 2.2.2 PECVD法薄膜沉积原理 | 第18-21页 |
| 2.2.3 PECVD沉积设备 | 第21-22页 |
| 2.3 薄膜性能测试仪器介绍 | 第22-25页 |
| 2.3.1 FILMeasure-20光谱仪 | 第22-23页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第23页 |
| 2.3.3 X射线粉末衍射仪 | 第23-24页 |
| 2.3.4 傅里叶红外光谱仪 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 非晶硅热光特性理论仿真 | 第26-37页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 非晶硅的氢团簇结构 | 第26-29页 |
| 3.3 非晶硅热光特性理论仿真 | 第29-36页 |
| 3.3.1 仿真理论背景 | 第29-31页 |
| 3.3.2 非晶硅模型建立及优化 | 第31-32页 |
| 3.3.3 仿真结果及分析 | 第32-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 非晶硅均匀工艺及热光系数测试技术的探索 | 第37-50页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 非晶硅均匀工艺研究 | 第37-41页 |
| 4.2.1 反应腔体优化 | 第37-39页 |
| 4.2.2 腔体优化前后薄膜均匀性对比 | 第39-41页 |
| 4.3 非晶硅薄膜热光系数测试平台搭建 | 第41-48页 |
| 4.3.1 国内外主要的热光系数测试方式 | 第41-43页 |
| 4.3.2 基于FILMeasure-20的热光系数测试平台设计 | 第43-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第五章 非晶硅薄膜热光系数测试实践及其工艺相关性 | 第50-79页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 射频功率对薄膜热光特性的影响 | 第50-61页 |
| 5.2.1 实验参数及设计 | 第50-51页 |
| 5.2.2 薄膜性能表征 | 第51-57页 |
| 5.2.3 射频功率对薄膜热光特性的影响 | 第57-61页 |
| 5.3 沉积压强的影响 | 第61-69页 |
| 5.3.1 实验参数及设计 | 第61页 |
| 5.3.2 薄膜性能表征 | 第61-67页 |
| 5.3.3 沉积压强对薄膜热光特性的影响 | 第67-69页 |
| 5.4 薄膜高温热退火处理 | 第69-77页 |
| 5.4.1 实验参数及设备 | 第70-71页 |
| 5.4.2 薄膜性能表征 | 第71-74页 |
| 5.4.3 退火温度对薄膜热光特性的影响 | 第74-77页 |
| 5.5 本章小结 | 第77-79页 |
| 第六章 总结 | 第79-81页 |
| 6.1 本文完成的工作 | 第79-80页 |
| 6.2 本文展望 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-86页 |
| 攻硕期间的研究成果 | 第86-87页 |