| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 钼电极的应用与发展前景 | 第11-12页 |
| 1.3 国内外钼基涂层的研究现状 | 第12-16页 |
| 1.3.1 金属镀层 | 第12-13页 |
| 1.3.2 铝化物涂层 | 第13页 |
| 1.3.3 硅化物涂层 | 第13-14页 |
| 1.3.4 氧化物涂层 | 第14-16页 |
| 1.4 钼合金涂层的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.4.1 化学气相沉积 | 第16页 |
| 1.4.2 热喷涂 | 第16页 |
| 1.4.3 包渗法 | 第16-17页 |
| 1.4.4 料浆法 | 第17页 |
| 1.4.5 溶胶-凝胶 | 第17页 |
| 1.5 涂层的工作原理及失效形式 | 第17-19页 |
| 1.5.1 高温抗氧化涂层的工作原理 | 第17-18页 |
| 1.5.2 高温抗氧化涂层的失效形式 | 第18-19页 |
| 1.6 课题研究意义及主要内容 | 第19-21页 |
| 2 实验内容及方法 | 第21-30页 |
| 2.1 合金基体及涂层体系的确定 | 第21-22页 |
| 2.1.1 合金基体的选择 | 第21-22页 |
| 2.1.2 涂层体系的确定 | 第22页 |
| 2.2 涂层的制备 | 第22-28页 |
| 2.2.1 涂层的制备工艺流程 | 第22-24页 |
| 2.2.2 磁控溅射涂层的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.3 包渗涂层的制备 | 第25-28页 |
| 2.3 涂层抗氧化性能测试 | 第28-30页 |
| 2.3.1 抗氧化性能分析 | 第28-29页 |
| 2.3.2 原子力显微镜 | 第29页 |
| 2.3.3 纳米压痕仪 | 第29页 |
| 2.3.4 扫描电镜 | 第29页 |
| 2.3.5 X-ray衍射(XRD)分析 | 第29页 |
| 2.3.6 能谱(EDS)分析 | 第29-30页 |
| 3 磁控溅射涂层制备及其性能研究 | 第30-38页 |
| 3.1 涂层的基本性能 | 第30页 |
| 3.2 涂层物相分析 | 第30-31页 |
| 3.3 涂层形貌分析 | 第31-37页 |
| 3.3.1 涂层表面形貌分析 | 第31-33页 |
| 3.3.2 涂层横截面分析 | 第33-34页 |
| 3.3.3 纳米硬度与弹性模量 | 第34-35页 |
| 3.3.4 涂层结合强度 | 第35-36页 |
| 3.3.5 涂层的抗氧化性能 | 第36-37页 |
| 3.4 结论 | 第37-38页 |
| 4 包渗温度对涂层性能影响研究 | 第38-52页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 温度对涂层厚度的影响 | 第38-39页 |
| 4.3 温度对涂层成分分布的影响 | 第39-41页 |
| 4.4 温度对涂层组织形貌的影响 | 第41-47页 |
| 4.5 温度对涂层抗氧化性能的影响 | 第47-50页 |
| 4.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 5 包渗时间对涂层性能影响及涂层抗氧化性能的研究 | 第52-70页 |
| 5.1 引言 | 第52页 |
| 5.2 时间对涂层厚度的影响 | 第52-53页 |
| 5.3 保温时间对涂层成分分布及横截面组织形貌的影响 | 第53-57页 |
| 5.4 保温时间对涂层抗氧化性能的影响 | 第57-60页 |
| 5.5 掺杂铝对硅系涂层低温“粉化”的影响 | 第60-61页 |
| 5.6 1000℃静态抗氧化实验 | 第61-69页 |
| 5.6.1 硅铝系涂层 | 第61-65页 |
| 5.6.2 硅系涂层 | 第65-67页 |
| 5.6.3 铝系涂层 | 第67-69页 |
| 5.7 本章小结 | 第69-70页 |
| 6 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |