| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 论文研究意义 | 第9-12页 |
| 1.2.1 非线性光学的基本原理 | 第9-10页 |
| 1.2.2 席夫碱-卟啉的研究意义 | 第10-12页 |
| 1.3 卟啉类材料的研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3.1 国外研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3.2 国内研究现状 | 第13-14页 |
| 1.4 各章主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 席夫碱-卟啉量子化学理论计算 | 第16-25页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 共轭分子结构特点分析 | 第16-18页 |
| 2.3 中心金属及周围取代基对卟啉分子非线性光学性质的影响 | 第18-20页 |
| 2.3.1 中心金属对卟啉类材料非线性光学性质的影响 | 第18-19页 |
| 2.3.2 周围取代基对卟啉类材料非线性光学性质的影响 | 第19-20页 |
| 2.4 量子化学半理论计算 | 第20-24页 |
| 2.4.1 量子化学计算简介 | 第20页 |
| 2.4.2 对四种席夫碱-卟啉的量子化学计算 | 第20-24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 四种席夫碱取代苯基卟啉的合成与表征 | 第25-34页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 席夫碱-卟啉的合成 | 第25-28页 |
| 3.2.1 样品的结构特征 | 第25页 |
| 3.2.2 目标化合物的合成 | 第25-28页 |
| 3.3 生成物的表征 | 第28-33页 |
| 3.3.1 FT-IR 光谱 | 第28-30页 |
| 3.3.2 UV-Vis 光谱 | 第30-31页 |
| 3.3.3 液相联机质谱分析 | 第31-32页 |
| 3.3.4 荧光光谱 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 席夫碱-卟啉的三阶非线性光学性质的研究 | 第34-50页 |
| 4.1 引言 | 第34页 |
| 4.2 纳秒 Z 扫描实验 | 第34-38页 |
| 4.2.1 纳秒 Z 扫描实验原理 | 第34-37页 |
| 4.2.2 纳秒 Z 扫描实验条件 | 第37-38页 |
| 4.3 纳秒 Z 扫描实验结果及讨论 | 第38-47页 |
| 4.3.1 纳秒 Z 扫描实验结果 | 第38-39页 |
| 4.3.2 四种席夫碱-卟啉的有效拟合结果 | 第39-44页 |
| 4.3.3 四种样品的 Z 扫描实验结果讨论 | 第44-47页 |
| 4.4 光限幅测试 | 第47-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
