基于微流控芯片的细胞低温保护剂的添加和去除过程研究
摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 研究背景 | 第11-17页 |
1.1.1 低温保存技术的发展 | 第11-13页 |
1.1.2 低温保存常用的方法 | 第13-15页 |
1.1.3 低温保护剂的运用 | 第15-17页 |
1.2 添加和去除保护剂的研究现状 | 第17-22页 |
1.2.1 离心法 | 第17页 |
1.2.2 膜分离法 | 第17-19页 |
1.2.3 微流控法 | 第19-22页 |
1.3 本文研究内容与章节安排 | 第22-25页 |
1.3.1 研究内容 | 第22页 |
1.3.2 各章节安排 | 第22-25页 |
第二章 细胞膜传质理论模型和累积毒性模型 | 第25-31页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 细胞膜传质模型理论 | 第25-28页 |
2.2.1 K-K模型 | 第26-27页 |
2.2.2 2-P模型 | 第27-28页 |
2.3 毒性损伤模型 | 第28-29页 |
2.4 本章小结 | 第29-31页 |
第三章 小细胞悬浮液添加与去除保护剂过程优化 | 第31-49页 |
3.1 引言 | 第31-32页 |
3.2 保护剂添加与去除芯片 | 第32-34页 |
3.2.1 芯片设计 | 第32页 |
3.2.2 芯片加工 | 第32-34页 |
3.3 芯片微通道浓度验证 | 第34-37页 |
3.4 微流控芯片添加与去除保护剂实验 | 第37-45页 |
3.4.1 实验材料 | 第37页 |
3.4.2 实验平台 | 第37-38页 |
3.4.3 实验方法 | 第38-41页 |
3.4.4 检测方法 | 第41页 |
3.4.5 实验结果 | 第41-45页 |
3.5 讨论与总结 | 第45-48页 |
3.5.1 渗透性损伤 | 第45-47页 |
3.5.2 毒性损伤 | 第47页 |
3.5.3 离心损伤 | 第47-48页 |
3.6 本章小结 | 第48-49页 |
第四章 单个细胞添加与去除保护剂过程优化 | 第49-63页 |
4.1 引言 | 第49-50页 |
4.2 人卵母细胞灌流芯片 | 第50-52页 |
4.2.1 芯片设计 | 第50-51页 |
4.2.2 芯片加工 | 第51-52页 |
4.3 芯片仿真 | 第52-55页 |
4.3.1 模型建立 | 第52-54页 |
4.3.2 仿真结果 | 第54-55页 |
4.4 芯片浓度梯度验证 | 第55-56页 |
4.5 实验准备 | 第56-59页 |
4.5.1 实验材料 | 第56-57页 |
4.5.2 实验平台 | 第57-58页 |
4.5.3 实验方法 | 第58-59页 |
4.6 实验结果与讨论 | 第59-62页 |
4.6.1 实验数据与结果 | 第59-61页 |
4.6.2 应用与讨论 | 第61-62页 |
4.7 本章小结 | 第62-63页 |
第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第75页 |