| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 石墨烯 | 第10-16页 |
| 1.1.1 石墨烯的结构 | 第10页 |
| 1.1.2 石墨烯的特性 | 第10-12页 |
| 1.1.3 石墨烯的传感器应用 | 第12-16页 |
| 1.2 Fe_3O_4磁性纳米颗粒 | 第16-23页 |
| 1.2.1 Fe_3O_4磁性纳米颗粒的结构 | 第16-17页 |
| 1.2.2 Fe_3O_4磁性纳米颗粒的性质 | 第17-18页 |
| 1.2.3 Fe_3O_4磁性纳米颗粒的传感器应用 | 第18-23页 |
| 1.3 本文构思 | 第23-24页 |
| 第2章 基于四氧化三铁/石墨烯修饰电极的细胞外过氧化氢传感研究 | 第24-41页 |
| 2.1 前言 | 第24-26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-28页 |
| 2.2.1 试剂与材料 | 第26页 |
| 2.2.2 仪器和方法 | 第26页 |
| 2.2.3 Fe_3O_4/rGO 复合材料的合成 | 第26-27页 |
| 2.2.4 Fe_3O_4/rGO 修饰电极的制备 | 第27页 |
| 2.2.5 细胞培养 | 第27-28页 |
| 2.2.6 细胞外 H_2O_2检测方法 | 第28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-40页 |
| 2.3.1 Fe_3O_4/rGO 复合材料的表征 | 第28-31页 |
| 2.3.2 不同修饰电极的电化学性能表征 | 第31-32页 |
| 2.3.3 H_2O_2在不同修饰电极上电化学行为 | 第32-34页 |
| 2.3.4 电解液 pH、检测电位的优化 | 第34-35页 |
| 2.3.5 H_2O_2在 Fe_3O_4/rGO 修饰电极上的电化学分析 | 第35-36页 |
| 2.3.6 Fe_3O_4/rGO 修饰电极的抗干扰性、重现性和稳定性 | 第36-38页 |
| 2.3.7 Fe_3O_4/rGO 修饰电极应用于细胞外 H_2O_2检测 | 第38-40页 |
| 2.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 基于四氧化三铁/石墨烯复合材料的细胞比色分析 | 第41-50页 |
| 3.1 前言 | 第41-42页 |
| 3.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 3.2.1 试剂与材料 | 第42页 |
| 3.2.2 仪器与方法 | 第42-43页 |
| 3.2.3 Fe_3O_4/rGO 复合材料的合成 | 第43页 |
| 3.2.4 细胞培养 | 第43页 |
| 3.2.5 Fe_3O_4/rGO 复合材料催化性实验 | 第43页 |
| 3.2.6 Fe_3O_4/rGO 复合材料与 MCF-7 细胞结合实验 | 第43页 |
| 3.2.7 Fe_3O_4/rGO 复合材料用于 MCF-7 细胞比色分析 | 第43-44页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第44-48页 |
| 3.3.1 实验条件的优化 | 第44-45页 |
| 3.3.2 不同材料在 ABTS 中催化性考察 | 第45-47页 |
| 3.3.3 Fe_3O_4/rGO 与 MCF-7 细胞结合时间考察 | 第47页 |
| 3.3.4 Fe_3O_4/rGO 应用于 MCF-7 细胞凋亡分析 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 四氧化三铁/石墨烯修饰电极低电位检测鸟嘌呤和腺嘌呤的研究 | 第50-62页 |
| 4.1 前言 | 第50-51页 |
| 4.2 实验部分 | 第51页 |
| 4.2.1 仪器与试剂 | 第51页 |
| 4.2.2 修饰电极的制备 | 第51页 |
| 4.2.3 DNA 样品的制备 | 第51页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第51-60页 |
| 4.3.1 不同修饰电极的电化学性能表征 | 第51-53页 |
| 4.3.2 嘌呤碱基在电极上的电化学氧化行为 | 第53-54页 |
| 4.3.3 电解液 pH 值的优化 | 第54-56页 |
| 4.3.4 扫描速率的影响 | 第56页 |
| 4.3.5 单一的鸟嘌呤或腺嘌呤电化学检测 | 第56-58页 |
| 4.3.6 鸟嘌呤和腺嘌呤的同时电化学检测 | 第58-59页 |
| 4.3.7 Fe_3O_4/rGO/GCE 的重复性、稳定性及抗干扰性 | 第59-60页 |
| 4.3.8 实际样品分析 | 第60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-78页 |
| 附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
