| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| ·等离子体与材料处理概述 | 第9-10页 |
| ·直流辉光放电 | 第10-11页 |
| ·磁控溅射技术基础理论及原理 | 第11-13页 |
| ·溅射技术 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射原理 | 第12-13页 |
| ·磁控溅射技术的发展 | 第13-16页 |
| ·课题研究 | 第16-19页 |
| ·课题研究背景 | 第16页 |
| ·课题研究目的及意义 | 第16-17页 |
| ·课题研究内容 | 第17-19页 |
| 2 实验设备及实验方法 | 第19-27页 |
| ·磁控溅射设备介绍 | 第19页 |
| ·Langmuir探针介绍 | 第19-20页 |
| ·Langmuir探针分析理论 | 第20-24页 |
| ·无碰撞鞘层中的圆柱形探针 | 第20-22页 |
| ·具有非麦克斯韦分布电子时的情况 | 第22-24页 |
| ·实验方法 | 第24-27页 |
| 3 等离子体分布与镀层厚度分布的关系分析 | 第27-37页 |
| ·单一非平衡磁控管时的径向分布关系 | 第27-33页 |
| ·X为0mm处的等离子体分布规律 | 第27-28页 |
| ·X为15.5mm处的等离子体分布规律 | 第28-29页 |
| ·X为21.5mm处的等离子体分布规律 | 第29-30页 |
| ·X为32.5mm处的等离子体分布规律 | 第30-31页 |
| ·K为4.46时的等离子体分布规律与镀层厚度分布关系对比 | 第31-33页 |
| ·不同闭合状态时的径向分布关系 | 第33-34页 |
| ·镀层厚度径向均匀性未能有效改善的原因分析 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 4 等离子体分布对Cr镀层微观形貌的影响 | 第37-57页 |
| ·不同非平衡磁场对等离子体分布的影响 | 第37-44页 |
| ·X为0mm处的等离子体分布规律 | 第37-38页 |
| ·X为15.5mm处的等离子体分布规律 | 第38-39页 |
| ·X为21.5mm处的等离子体分布规律 | 第39-40页 |
| ·X为32.5mm处的等离子体分布规律 | 第40-42页 |
| ·不同非平衡度对等离子体分布规律的影响差异 | 第42-44页 |
| ·不同非平衡度磁场对Cr镀层结微观形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·不同磁场闭合状态对等离子体分布的影响 | 第46-55页 |
| ·d为40mm处的等离子体分布规律 | 第46-47页 |
| ·d为80mm处的等离子体分布规律 | 第47-48页 |
| ·d为120mm处的等离子体分布规律 | 第48-50页 |
| ·d为160mm处的等离子体分布规律 | 第50-51页 |
| ·等离子体密度提高的原因分析 | 第51-53页 |
| ·不同闭合状态等离子体分布规律影响的差异 | 第53-55页 |
| ·不同磁场闭合状态对镀层微观形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 5 结论 | 第57-59页 |
| 6 展望 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67页 |