| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 表面等离子体共振 | 第11-21页 |
| 1.2.1 表面等离子体共振的基本概念 | 第11-13页 |
| 1.2.2 表面等离子体共振的物理机制 | 第13-16页 |
| 1.2.3 表面等离子体共振的影响因素 | 第16-17页 |
| 1.2.4 表面等离子体共振的模拟计算 | 第17-19页 |
| 1.2.5 表面等离子体共振的应用领域 | 第19-21页 |
| 1.3 纳米材料 | 第21-23页 |
| 1.3.1 纳米材料的简介 | 第21页 |
| 1.3.2 银纳米材料 | 第21-22页 |
| 1.3.3 金属纳米线阵列 | 第22-23页 |
| 1.4 本论文研究目的及内容 | 第23-25页 |
| 1.4.1 课题研究目的 | 第23页 |
| 1.4.2 课题研究内容 | 第23-25页 |
| 2 实验方法与模拟计算 | 第25-38页 |
| 2.1 实验装置 | 第25-28页 |
| 2.1.1 磁控溅射装置 | 第25-26页 |
| 2.1.2 光学检测装置 | 第26-27页 |
| 2.1.3 薄膜分析测试方法 | 第27-28页 |
| 2.2 模拟计算 | 第28-38页 |
| 2.2.1 球体的模拟计算 | 第28-30页 |
| 2.2.2 圆球二聚体的模拟计算 | 第30-33页 |
| 2.2.3 圆柱体的模拟计算 | 第33-38页 |
| 3 银纳米线阵列薄膜稳态光学性能的研究 | 第38-59页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 阵列复合薄膜的制备及光学性能 | 第38-42页 |
| 3.2.1 制备工艺流程及薄膜结构表征 | 第38-41页 |
| 3.2.2 阵列复合薄膜的光学性能检测 | 第41-42页 |
| 3.3 银靶沉积功率对阵列薄膜的影响 | 第42-48页 |
| 3.4 沉积时间对阵列薄膜的影响 | 第48-50页 |
| 3.5 衬底偏压刻蚀功率对阵列薄膜的影响 | 第50-53页 |
| 3.6 替换阵列薄膜的衬底材料 | 第53-56页 |
| 3.6.1 粗糙衬底 | 第54-55页 |
| 3.6.2 柔性衬底 | 第55-56页 |
| 3.7 替换阵列薄膜的陶瓷介质 | 第56-57页 |
| 3.8 本章小结 | 第57-59页 |
| 4 银纳米线阵列薄膜瞬态非线性光学性能的研究 | 第59-69页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 阵列薄膜超快光响应的研究 | 第59-64页 |
| 4.2.1 飞秒泵浦探测瞬态光学性能 | 第59-62页 |
| 4.2.2 不同探测光入射角度 | 第62-63页 |
| 4.2.3 不同泵浦激光激发功率 | 第63-64页 |
| 4.3 多层银纳米线-氧化铝复合薄膜的宽谱超快光响应 | 第64-67页 |
| 4.3.1 双层银纳米线阵列复合薄膜 | 第65-66页 |
| 4.3.2 三层银纳米线阵列复合薄膜 | 第66-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 5 总结与展望 | 第69-71页 |
| 5.1 总结 | 第69-70页 |
| 5.2 展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 附录 | 第79页 |