| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| 1.1 氧化铝薄膜 | 第10-18页 |
| 1.1.1 阳极氧化铝 | 第10-11页 |
| 1.1.2 阳极氧化铝薄膜的分类 | 第11页 |
| 1.1.3 阳极氧化铝薄膜的形成过程 | 第11-12页 |
| 1.1.4 阳极氧化铝薄膜形成的电化学过程 | 第12-14页 |
| 1.1.5 阳极氧化铝薄膜形成的体积膨胀过程 | 第14-15页 |
| 1.1.6 多孔型阳极氧化铝薄膜的孔道结构 | 第15-18页 |
| 1.2 椭圆偏振光谱 | 第18-25页 |
| 1.2.1 多层膜反射原理与菲涅尔反射折射定律 | 第18-19页 |
| 1.2.2 椭圆偏振测量中参量(?)与?的物理意义 | 第19-21页 |
| 1.2.3 椭圆偏振测量中参量(?)与?的测量 | 第21-23页 |
| 1.2.4 椭圆偏振光谱技术在阳极氧化铝薄膜方面的研究 | 第23-25页 |
| 1.3 介质平板波导传感技术 | 第25-30页 |
| 1.3.1 介质平板波导的波导模式调控原理 | 第25-28页 |
| 1.3.2 介质平板波导传感技术的应用 | 第28-30页 |
| 1.4 本论文的研究目的与研究意义 | 第30-32页 |
| 1.4.1 玻璃基板上制备多孔型氧化铝的精细结构分析 | 第30页 |
| 1.4.2 玻璃基板上制备多孔型氧化铝波导的光学参数分析 | 第30-31页 |
| 1.4.3 玻璃基板多孔型AAO薄膜在介质波导上的应用 | 第31-32页 |
| 第二章 多孔型阳极氧化铝薄膜的制备与结构分析 | 第32-48页 |
| 2.1 研究背景介绍 | 第32-33页 |
| 2.2 实验过程 | 第33-36页 |
| 2.2.1 在玻璃基片上制备铝薄膜与氧化铝薄膜 | 第33-34页 |
| 2.2.2 氧化铝薄膜的椭圆偏振光谱表征方法 | 第34-36页 |
| 2.3 光学玻璃基底的椭圆偏振光谱测量与拟合结果分析 | 第36-38页 |
| 2.4 多孔型AAO薄膜的椭圆偏振光谱测量与拟合结果分析 | 第38-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 多孔型阳极氧化铝薄膜的光学参数分析 | 第48-55页 |
| 3.1 氧化电压对光学参数的影响 | 第48-51页 |
| 3.2 薄膜厚度对光学参数的影响 | 第51-52页 |
| 3.3 多孔型AAO薄膜的传感结构 | 第52-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 总结与展望 | 第55-56页 |
| 4.1 全文总结 | 第55页 |
| 4.2 思考与展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 作者简历 | 第61页 |
| 科研成果简介 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 本论文受如下项目资助 | 第63页 |
