| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 物质磁性的分类 | 第8-10页 |
| 1.1.1 抗磁性 | 第9页 |
| 1.1.2 顺磁性 | 第9页 |
| 1.1.3 铁磁性 | 第9页 |
| 1.1.4 反铁磁性 | 第9页 |
| 1.1.5 亚铁磁性 | 第9-10页 |
| 1.2 磁光效应 | 第10-11页 |
| 1.2.1 法拉第效应 | 第10页 |
| 1.2.2 其他磁光效应 | 第10-11页 |
| 1.3 磁光材料 | 第11-12页 |
| 1.3.1 磁光晶体材料 | 第11-12页 |
| 1.3.2 磁光玻璃材料 | 第12页 |
| 1.3.3 磁光薄膜材料 | 第12页 |
| 1.4 选题依据及研究内容 | 第12-18页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第12-16页 |
| 1.4.1.1 烧绿石型稀土钛酸盐 | 第13-14页 |
| 1.4.1.2 Tb_2Ti_2O_7及Re_2Ti_2O_7的A位掺杂 | 第14-16页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 晶体生长原料的合成与表征 | 第18-29页 |
| 2.1 主要仪器与试剂 | 第18-19页 |
| 2.1.1 主要仪器 | 第18页 |
| 2.1.2 主要试剂 | 第18-19页 |
| 2.1.3 原料的提纯与准备 | 第19页 |
| 2.2 原料的合成与表征 | 第19-28页 |
| 2.2.1 Tb_2Ti_(2-x)Si_xO_7(x=0.01,0.02) | 第19-23页 |
| 2.2.1.1 反应方程式 | 第19-20页 |
| 2.2.1.2 合成工艺 | 第20页 |
| 2.2.1.3 ICP分析 | 第20-21页 |
| 2.2.1.4 X-射线粉末衍射 | 第21-22页 |
| 2.2.1.5 红外光谱分析 | 第22-23页 |
| 2.2.2 Tb_2Ti_(2-x)Mn_xO_7(x=0.02,0.04, 0.06) | 第23-25页 |
| 2.2.2.1 反应方程式 | 第23页 |
| 2.2.2.2 合成工艺 | 第23页 |
| 2.2.2.3 ICP分析 | 第23-24页 |
| 2.2.2.4 X-射线粉末衍射 | 第24-25页 |
| 2.2.2.5 红外光谱分析 | 第25页 |
| 2.2.3 Tb_2Ti_(2-2x)V_xTb_xO_7(x=0.02,0.035, 0.055) | 第25-28页 |
| 2.2.3.1 反应方程式 | 第25页 |
| 2.2.3.2 合成工艺 | 第25-26页 |
| 2.2.2.3 ICP分析 | 第26页 |
| 2.2.3.4 X-射线粉末衍射 | 第26-27页 |
| 2.2.3.5 红外光谱分析 | 第27-28页 |
| 2.3 小结 | 第28-29页 |
| 第三章 Tb_2Ti_(2-x)Si_xO_7,Tb_2Ti_(2-x)Mn_xO_7和Tb_2Ti_(2-2x)V_xTb_xO_7晶体的提拉法生长 | 第29-40页 |
| 3.1 提拉法 | 第29-33页 |
| 3.1.1 提拉生长系统的组成 | 第29-31页 |
| 3.1.1.1 温度系统 | 第30页 |
| 3.1.1.2 生长系统 | 第30-31页 |
| 3.1.1.3 传动系统 | 第31页 |
| 3.1.1.4 气氛控制系统 | 第31页 |
| 3.1.2 提拉法生长晶体的优缺点 | 第31-32页 |
| 3.1.3 提拉法生长晶体的步骤 | 第32-33页 |
| 3.2 晶体生长实验 | 第33-39页 |
| 3.2.1 Tb_2Ti_(2-x)Si_xO_7(x=0.01,0.02) | 第33-35页 |
| 3.2.2 Tb_2Ti_(2-x)Mn_xO_7(x=0.02, 0.04, 0.06) | 第35-38页 |
| 3.2.3 Tb_2Ti_(2-2x)V_xTb_xO_7(x=0.02,0.035,0.055) | 第38-39页 |
| 3.3 小结 | 第39-40页 |
| 第四章 晶体结构及部分物理性能表征 | 第40-59页 |
| 4.1 晶体粉末的X射线衍射分析 | 第40-49页 |
| 4.2 电镜能谱分析 | 第49-50页 |
| 4.3 晶体硬度测试 | 第50-51页 |
| 4.4 晶体变温磁化率测试 | 第51-55页 |
| 4.5 晶体的密度 | 第55-56页 |
| 4.6 晶体生长习性与形貌分析 | 第56-58页 |
| 4.7 小结 | 第58-59页 |
| 第五章 晶体的磁光性能 | 第59-76页 |
| 5.1 晶体的透射光谱 | 第59-65页 |
| 5.2 晶体的磁光性能 | 第65-75页 |
| 5.2.1 晶体法拉第旋转角的测量方法 | 第65-75页 |
| 5.2.1.1 消光法 | 第65-66页 |
| 5.2.1.2 系统简介 | 第66页 |
| 5.2.1.3 误差分析及减小方法 | 第66-67页 |
| 5.2.1.4 实验数据的处理 | 第67-75页 |
| 5.3 小结 | 第75-76页 |
| 结论 | 第76-78页 |
| 展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 个人简历 | 第89页 |
